[实用新型]一种新型低气压磁控溅射靶有效
| 申请号： | 202020063293.9 | 申请日： | 2020-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN211497772U | 公开（公告）日： | 2020-09-15 |
| 发明（设计）人： | 周焱文 | 申请（专利权）人： | 武汉普迪真空科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 | 代理人： | 周琼 |
| 地址： | 430000 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 新型 气压 磁控溅射 | ||
1.一种新型低气压磁控溅射靶，包括框架(1)，所述框架(1)的一侧固定连接有第一绝缘垫(2)，所述框架(1)的两侧均连接有固定机构，所述框架(1)通过所述固定机构连接有靶背板(4)，所述第一绝缘垫(2)位于所述靶背板(4)与所述靶背板(4)之间，所述靶背板(4)的一侧固定连接有靶材板(5)，其特征在于，所述框架(1)的外侧与所述固定机构的连接处固定连接有第二绝缘垫(8)，所述框架(1)的两侧下部均固定连接有支撑机构，所述支撑机构的上端固定连接有伸缩气缸(11)，所述伸缩气缸(11)的上端固定连接有连接座，所述连接座的上端固定连接有固定块(12)，所述固定块(12)的一侧固定连接有第一固定架(13)，所述第一固定架(13)上固定连接有若干个磁铁块(14)，每个所述磁铁块(14)的一侧均与所述框架(1)相接触，所述第一固定架(13)的上端固定连接有固定板(15)，所述固定板(15)的上端固定连接有第二固定架(16)，所述第二固定架(16)固定连接所述磁铁块(14)。
2.根据权利要求1所述的一种新型低气压磁控溅射靶，其特征在于，所述第一绝缘垫(2)的一侧固定连接有若干个凸起(3)。
3.根据权利要求1所述的一种新型低气压磁控溅射靶，其特征在于，所述固定机构包括固定夹板(6)，所述固定夹板(6)的一侧挤压所述靶背板(4)，所述固定夹板(6)上固定连接有螺栓(7)，所述螺栓(7)的一端延伸至所述框架(1)上。
4.根据权利要求1所述的一种新型低气压磁控溅射靶，其特征在于，所述支撑机构包括两个连接板(9)，每个所述连接板(9)的一端均固定在所述框架(1)上，两个所述连接板(9)之间固定连接有支撑板(10)，所述伸缩气缸(11)固定在所述支撑板(10)上。
5.根据权利要求1所述的一种新型低气压磁控溅射靶，其特征在于，所述第一绝缘垫(2)与所述第二绝缘垫(8)均位于橡胶垫。
6.根据权利要求1所述的一种新型低气压磁控溅射靶，其特征在于，所述固定块(12)、所述第一固定架(13)、所述固定板(15)与所述第二固定架(16)为一体结构。
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