[实用新型]金属卷材真空镀膜设备

权利要求书

1.一种金属卷材真空镀膜设备，其特征在于：包括加热真空腔体(2)、多弧离子沉膜腔体、放卷装置(6)、收卷装置(7)、加热装置(8)、多弧离子靶(9)、抽真空装置(10)和控制系统，所述金属卷材一端从放卷装置上引出顺序经过加热真空腔体和多弧离子沉膜腔体并最终缠绕于收卷装置上收卷，加热装置能够给加热真空腔体内部空间加热到设定温度，多弧离子靶固定安装于多弧离子沉膜腔体内并能够将有色金属沉积在金属带表面形成彩色镀膜，抽真空装置给加热真空腔体和多弧离子沉膜腔体抽真空到指定的真空度，控制系统控制放卷装置、收卷装置、加热装置、多弧离子靶和抽真空装置运行。

2.根据权利要求1所述的金属卷材真空镀膜设备，其特征在于：还设有放卷真空腔体(1)和收卷真空腔体(5)，放卷真空腔体通过连接通道(14)与加热真空腔体一侧连通，加热真空腔体另一侧通过连接通道与多弧离子沉膜腔体一侧连通，多弧离子沉膜腔体另一侧通过连接通道与收卷真空腔体连通，放卷装置和收卷装置分别安装于放卷真空腔体和收卷真空腔体内，抽真空装置能够给放卷真空腔体和收卷真空腔体抽真空。

3.根据权利要求1所述的金属卷材真空镀膜设备，其特征在于：还设有保护气体提供装置，所述保护气体提供装置能够给多弧离子沉膜腔体内充保护气体。

4.根据权利要求3所述的金属卷材真空镀膜设备，其特征在于：所述多弧离子沉膜腔体包括第一多弧离子沉膜腔体(3) 和第二多弧离子沉膜腔体(4)，其中第一多弧离子沉膜腔体通过连接通道与第二多弧离子沉膜腔体连通，保护气体提供装置包括第一保护气体提供装置和第二保护气体提供装置，第一保护气体提供装置给第一多弧离子沉膜腔体提供Ar气，第二保护气体提供装置给第二多弧离子沉膜腔体提供Ar气、N₂气、C₂H₂或O₂气中的一种或多种组合，多弧离子靶能够给第一多弧离子沉膜腔体内料带沉积Cr膜，多弧离子靶能够给第二多弧离子沉膜腔体内料带沉积TiN膜。

5.根据权利要求4所述的金属卷材真空镀膜设备，其特征在于：第二保护气体提供装置包括保护气体供气管路和混气装置(12)，各保护气体管路内分别充有不同的保护气体，各个保护气体供气管路与混气装置进气口连通，混气装置的出气口通过管路与第二多弧离子沉膜腔体连通，混气装置能够将多种保护气体混合均匀。

6.根据权利要求3所述的金属卷材真空镀膜设备，其特征在于：所述保护气体提供装置的充气管路上还设有流量计(11)，流量计能够感应充气管路内气体流量信息并传信于控制系统，控制系统控制保护气体提供装置的启停。

7.根据权利要求3所述的金属卷材真空镀膜设备，其特征在于：所述加热真空腔体和多弧离子沉膜腔体内部上端设有两个传动辊(13)，加热真空腔体和多弧离子沉膜腔体内部下端设有一个传动辊，金属带顺序绕过一个上端传动辊、下端传动辊和另一个上端传动辊形成沿加热真空腔体和多弧离子沉膜腔体长度方向延伸的转向的输送，加热装置固定安装于加热真空腔体两侧，金属带恰位于两个加热装置之间，多个多弧离子靶间隔排列于多弧离子沉膜腔体两侧，金属带恰位于多个多弧离子靶之间。

8.根据权利要求1所述的金属卷材真空镀膜设备，其特征在于：所述加热装置为电加热管，加热装置能够给加热真空腔体内温度加热到180-220℃。

9.根据权利要求1所述的金属卷材真空镀膜设备，其特征在于：所述放卷装置包括放卷料盘、放料辊和放料压辊，所述放料辊和放料压辊圆周外侧表面能够紧密接触的相对转动，放料盘上引出的料带经过放料辊和放料压辊之间向前输送，收卷装置包括收卷料盘、收料辊和收料压辊，所述收料辊和收料压辊圆周外侧表面能够紧密接触的相对转动，料带经过收料辊和收料压辊之间并最终缠绕于收卷料盘上。

10.根据权利要求2所述的金属卷材真空镀膜设备，其特征在于：还设有设备底座(15)，所述放卷真空腔体、加热真空腔体、多弧离子沉膜腔体和收卷真空腔体顺序固定安装于底座上。