[实用新型]金属卷材真空镀膜设备有效
申请号: | 202020084926.4 | 申请日: | 2020-01-15 |
公开(公告)号: | CN211367707U | 公开(公告)日: | 2020-08-28 |
发明(设计)人: | 成林 | 申请(专利权)人: | 昆山浦元真空技术工程有限公司 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32;C23C14/56;C23C14/16;C23C14/06;C23C14/54 |
代理公司: | 昆山中际国创知识产权代理有限公司 32311 | 代理人: | 尤天珍 |
地址: | 215300 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 金属 卷材 真空镀膜 设备 | ||
本实用新型公开了一种金属卷材真空镀膜设备,包括加热真空腔体、多弧离子沉膜腔体、放卷装置、收卷装置、加热装置、多弧离子靶、抽真空装置和控制系统,金属卷材一端从放卷装置上引出顺序经过加热真空腔体和多弧离子沉膜腔体并最终缠绕于收卷装置上收卷,加热装置能给加热真空腔体内部空间加热到设定温度,多弧离子靶固定安装于多弧离子沉膜腔体内并能够将有色金属沉积在金属带表面形成彩色镀膜,抽真空装置给加热真空腔体和多弧离子沉膜腔体抽真空到指定的真空度,控制系统控制放卷装置、收卷装置、加热装置、多弧离子靶和抽真空装置运行,本实用新型能在卷材表面形成牢固的镀膜层,且镀膜色彩鲜艳、美观,本实用新型还节省设备占用空间。
技术领域
本实用新型涉及一种真空镀膜设备,特别涉及一种金属卷材真空镀膜设备。
背景技术
目前金属卷材进行真空镀膜时,都是将是采用一个真空腔体,多弧离子靶安装在这个腔体侧壁上,在腔体内设置放卷和收卷装置,进行放卷和收卷的同时对料带进行沉膜,实现真空镀膜,这种镀膜方式,镀膜牢固度差,容易脱落,且镀膜表面色彩不够鲜艳,整体美观性不足,腔体内真空度难以掌控,容易出现镀膜后产品氧化变色。
实用新型内容
为了克服上述缺陷,本实用新型提供了一种金属卷材真空镀膜设备,该金属卷材真空镀膜设备能够提高真空镀膜的牢固度,且镀膜色彩鲜艳、美观。
本实用新型为了解决其技术问题所采用的技术方案是:一种金属卷材真空镀膜设备,包括加热真空腔体、多弧离子沉膜腔体、放卷装置、收卷装置、加热装置、多弧离子靶、抽真空装置和控制系统,所述金属卷材一端从放卷装置上引出顺序经过加热真空腔体和多弧离子沉膜腔体并最终缠绕于收卷装置上收卷,加热装置能够给加热真空腔体内部空间加热到设定温度,多弧离子靶固定安装于多弧离子沉膜腔体内并能够将有色金属沉积在金属带表面形成彩色镀膜,抽真空装置给加热真空腔体和多弧离子沉膜腔体抽真空到指定的真空度,控制系统控制放卷装置、收卷装置、加热装置、多弧离子靶和抽真空装置运行。
作为本实用新型的进一步改进,还设有放卷真空腔体和收卷真空腔体,放卷真空腔体通过连接通道与加热真空腔体一侧连通,加热真空腔体另一侧通过连接通道与多弧离子沉膜腔体一侧连通,多弧离子沉膜腔体另一侧通过连接通道与收卷真空腔体连通,放卷装置和收卷装置分别安装于放卷真空腔体和收卷真空腔体内,抽真空装置能够给放卷真空腔体和收卷真空腔体抽真空。
作为本实用新型的进一步改进,还设有保护气体提供装置,所述保护气体提供装置能够给多弧离子沉膜腔体内充保护气体。
作为本实用新型的进一步改进,所述多弧离子沉膜腔体包括第一多弧离子沉膜腔体和第二多弧离子沉膜腔体,其中第一多弧离子沉膜腔体通过连接通道与第二多弧离子沉膜腔体连通,保护气体提供装置包括第一保护气体提供装置和第二保护气体提供装置,第一保护气体提供装置给第一多弧离子沉膜腔体提供Ar气,第二保护气体提供装置给第二多弧离子沉膜腔体提供Ar气、N2气、C2H2或O2气中的一种或多种组合,多弧离子靶能够给第一多弧离子沉膜腔体内料带沉积Cr膜,多弧离子靶能够给第二多弧离子沉膜腔体内料带沉积TiN膜。
作为本实用新型的进一步改进,第二保护气体提供装置包括保护气体供气管路和混气装置,各保护气体管路内分别充有不同的保护气体,各个保护气体供气管路与混气装置进气口连通,混气装置的出气口通过管路与第二多弧离子沉膜腔体连通,混气装置能够将多种保护气体混合均匀。
作为本实用新型的进一步改进,所述保护气体提供装置的充气管路上还设有流量计,流量计能够感应充气管路内气体流量信息并传信于控制系统,控制系统控制保护气体提供装置的启停。
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