[实用新型]一种用于反应烧结碳化硅制品的真空炉

权利要求书

1.一种用于反应烧结碳化硅制品的真空炉，其特征在于，包括电控系统(1)、炉壳(2)、加热室(3)、真空系统(8)及多组发热组件(4)，其中加热室(3)设置于炉壳(2)内，多组发热组件(4)设置于加热室(3)内，并且与电控系统(1)连接；所述真空系统(8)与所述炉壳(2)连接，用于对所述炉壳(2)内进行抽真空；所述电控系统(1)用于控制真空系统(8)及多组发热组件(4)。

2.根据权利要求1所述的用于反应烧结碳化硅制品的真空炉，其特征在于，所述发热组件(4)包括电极棒(35)、发热体(310)及支撑组件，其中电极棒(35)的一端插设于所述加热室(3)内，另一端通过铜排与所述电控系统(1)连接，所述发热体(310)通过支撑组件设置于所述加热室(3)内，并且与所述电极棒(35)连接。

3.根据权利要求2所述的用于反应烧结碳化硅制品的真空炉，其特征在于，所述支撑组件包括连接梁(34)和支撑棒(36)；所述发热体(310)的两端分别与一连接梁(34)连接，所述连接梁(34)通过支撑棒(36)与所述加热室(3)固定连接。

4.根据权利要求3所述的用于反应烧结碳化硅制品的真空炉，其特征在于，所述连接梁(34)和支撑棒(36)均采用石墨材质，其中一所述连接梁(34)的一端与所述电极棒(35)连接。

5.根据权利要求1所述的用于反应烧结碳化硅制品的真空炉，其特征在于，所述加热室(3)内设有石墨盒(37)，所述石墨盒(37)放置于所述加热室(3)内设有的支撑梁(38)上。

6.根据权利要求1所述的用于反应烧结碳化硅制品的真空炉，其特征在于，所述加热室(3)包括加热室框架(31)、石墨衬套(33)、端屏(39)及保温层，其中加热室框架(31)与所述炉壳(2)连接，所述石墨衬套(33)设置于所述加热室框架(31)内，并且与所述加热室框架(31)之间设有保温层，所述加热室框架(31)的两端设有端屏(39)。

7.根据权利要求6所述的用于反应烧结碳化硅制品的真空炉，其特征在于，所述保温层为碳毡(32)。

8.根据权利要求6所述的用于反应烧结碳化硅制品的真空炉，其特征在于，所述端屏(39)包括端屏石墨板(91)、端屏框架(92)、端屏保温层及端屏拉板(93)，其中括端屏石墨板(91)和端屏框架(92)之间设有端屏保温层，所述端屏框架(92)通过端屏拉板(93)与炉门连接。

9.根据权利要求1所述的用于反应烧结碳化硅制品的真空炉，其特征在于，所述炉壳(2)包括炉腿(21)、前炉门(23)、炉体(24)及后炉门(25)，其中炉体(24)的底部设有炉腿(21)，所述前炉门(23)和后炉门(25)通过铰链(22)分别铰接于所述炉体(24)的两端，所述前炉门(23)、炉体(24)及后炉门(25)均为夹层结构，用于充入冷却循环水。

10.根据权利要求1所述的用于反应烧结碳化硅制品的真空炉，其特征在于，还包括设置于所述炉壳(2)上的防爆阀(5)、热偶组件(6)及红外测温系统(7)。