[实用新型]一种用于反应烧结碳化硅制品的真空炉有效
申请号: | 202020117395.4 | 申请日: | 2020-01-19 |
公开(公告)号: | CN211903701U | 公开(公告)日: | 2020-11-10 |
发明(设计)人: | 程革;吴振磊;孔德惠;吴冰;张天龙;于洪斌;刘鹏程;陶崇浩;李天华;赵嘉明;韩凤;何晓棠 | 申请(专利权)人: | 沈阳沈真真空技术有限责任公司 |
主分类号: | F27B5/05 | 分类号: | F27B5/05;F27B5/06;F27B5/14;F27B5/18 |
代理公司: | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人: | 何丽英 |
地址: | 110108 辽宁省沈阳市苏家屯区清*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 反应 烧结 碳化硅 制品 真空炉 | ||
本实用新型属于真空炉设备技术领域,具体地说是一种用于反应烧结碳化硅制品的真空炉。包括电控系统、炉壳、加热室、真空系统及多组发热组件,其中加热室设置于炉壳内,多组发热组件设置于加热室内,并且与电控系统连接,真空系统与炉壳连接,用于对炉壳内进行抽真空,电控系统用于控制真空系统及多组发热组件。本实用新型整个工作过程安全性好,操作简单,产品质量好,成品率高,设备整体寿命长,易维修,生产温度阈值上限高。
技术领域
本实用新型属于真空炉设备技术领域,具体地说是一种用于反应烧结碳化硅制品的真空炉。
背景技术
用于反应烧结碳化硅制品的真空炉是生产碳化硅制品的主要生产设备。现有真空炉大多生产效率低,成品率差,设备生产温度阈值低,设备的寿命短,维修不方便,极大提高了生产成本。为了提高产品质量,降低生产成本,急需一种成品率高,设备寿命长,生产温度阈值上限高的用于反应烧结碳化硅制品的真空炉。
实用新型内容
针对上述问题,本实用新型的目的在于提供一种用于反应烧结碳化硅制品的真空炉,以解决现有真空炉操作复杂,设备寿命短,维修困难,生产温度阈值低,而且产品的质量差,成品率低的问题。
为了实现上述目的,本实用新型采用以下技术方案:
一种用于反应烧结碳化硅制品的真空炉,包括电控系统、炉壳、加热室、真空系统及多组发热组件,其中加热室设置于炉壳内,多组发热组件设置于加热室内,并且与电控系统连接;所述真空系统与所述炉壳连接,用于对所述炉壳内进行抽真空;所述电控系统用于控制真空系统及多组发热组件。
所述发热组件包括电极棒、发热体及支撑组件,其中电极棒的一端插设于所述加热室内,另一端通过铜排与所述电控系统连接,所述发热体通过支撑组件设置于所述加热室内,并且与所述电极棒连接。
所述支撑组件包括连接梁和支撑棒;所述发热体的两端分别与一连接梁连接,所述连接梁通过支撑棒与所述加热室固定连接。
所述连接梁和支撑棒均采用石墨材质,其中一所述连接梁的一端与所述电极棒连接。
所述加热室内设有石墨盒,所述石墨盒放置于所述加热室内设有的支撑梁上。
所述加热室包括加热室框架、石墨衬套、端屏及保温层,其中加热室框架与所述炉壳连接,所述石墨衬套设置于所述加热室框架内,并且与所述加热室框架之间设有保温层,所述加热室框架的两端设有端屏。
所述保温层为碳毡。
所述端屏包括端屏石墨板、端屏框架、端屏保温层及端屏拉板,其中括端屏石墨板和端屏框架之间设有端屏保温层,所述端屏框架通过端屏拉板与炉门连接。
所述炉壳包括炉腿、前炉门、炉体及后炉门,其中炉体的底部设有炉腿,所述前炉门和后炉门通过铰链分别铰接于所述炉体的两端,所述前炉门、炉体及后炉门均为夹层结构,用于充入冷却循环水。
所述的用于反应烧结碳化硅制品的真空炉,还包括设置于所述炉壳上的防爆阀、热偶组件及红外测温系统。
本实用新型的优点与积极效果为:
本实用新型提供了一种用于反应烧结碳化硅制品的真空炉,设备整体使用寿命长,易维修,生产过程安全性好,操作简单,产品质量好,成品率高,极大程度降低了生产成本及维修难度,并且设备生产温度阈值上限高。
附图说明
图1是本实用新型用于反应烧结碳化硅制品的真空炉的结构示意图;
图2是图1的俯视图;
图3是本实用新型中炉壳的主视图;
图4是图3的俯视图;
图5是本实用新型中加热室的主视图;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于沈阳沈真真空技术有限责任公司,未经沈阳沈真真空技术有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202020117395.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。