[实用新型]镀膜装置

说明书

本实用新型涉及一种镀膜装置，用于在太阳能电池片的制造过程中在太阳能电池片的基体片上镀减反膜，镀膜装置包括炉体、前法兰壁、后法兰壁和供气装置，其中，镀膜装置上设置有连通外界和容纳腔的至少两组进气孔，供气装置能够同时通过各组进气孔向容纳腔内供气，其中第一组进气孔设置在后法兰壁上，其他进气孔设置在炉体上或前法兰壁上。根据本实用新型，镀膜装置在炉体的不同位置处设置有进气孔，在制造减反膜的工艺中，供气装置能够经由各个进气孔同时向炉体内供气，以使得炉体内的各处气体均匀地发生反应，从而在位于炉体内的不同位置处的硅片上形成厚度均匀的减反膜。

技术领域

本实用新型涉及太阳能电池领域，尤其涉及一种镀膜装置。

背景技术

随着全球煤炭、石油、天然气等常规化石能源消耗速度加快，生态环境不断恶化，特别是温室气体排放导致日益严峻的全球气候变化，人类社会的可持续发展已经受到严重威胁。世界各国纷纷制定各自的能源发展战略，以应对常规化石能源资源的有限性和开发利用带来的环境问题。太阳能凭借其可靠性、安全性、广泛性、长寿性、环保性、资源充足性的特点已成为最重要的可再生能源之一，有望成为未来全球电力供应的主要支柱。

在新一轮能源变革过程中，我国光伏产业已成长为具有国际竞争优势的战略新兴产业。然而，光伏产业发展仍面临诸多问题与挑战，转换效率与可靠性是制约光伏产业发展的最大技术障碍，而成本控制与规模化又在经济上形成制约。

太阳能电池片的生产工序中，镀膜是非常关键的一步。镀膜是为了在硅片表面均匀地镀上一层高效的氮化硅减反射膜，减少光的反射损失，增强电池片吸收光的能力，提高电池效率。同时，非晶形态的氮化硅中含有一定量的氢，在烧结过程中，氮化硅中的氢扩散到硅片内部，饱和悬挂键而产生钝化作用。

在镀膜工艺中，通常通过石墨舟携带硅片进入炉管。当石墨舟平稳地放在管内后，在管内的环境满足镀膜工艺要求时，通过气管在炉管里释放一定比例的特定气体，气体发生反应形成氮化硅并附着于硅片的表面。

在制程中由于流速的影响，气体到达每个位置的时间也不尽相同，并且在气体流动的同时气体也在发生反应、在消耗，所以靠近后炉门位置的气体开始反应产生氮化硅附着在硅片上时，靠近前炉门的硅片可能还没有气体到达或是气体的浓度还较低，则导致电池片的镀膜厚度达不到预定效果。

如果将气孔释放气体的时间加长，靠近前炉门的位置虽然可以获得理想中的气体浓度，在硅片表面可以形成理想的镀膜厚度，但却造成靠近后炉门的硅片在反应环境中所停留的时间过长，随着气体不停地反应，导致附着在硅片表面的氮化硅过多，减反膜过厚。

因而需要提供一种镀膜装置，以至少部分地解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于，提供一种镀膜装置，其在炉体的不同位置处设置有进气孔，在制造减反膜的工艺中，供气装置能够经由各个进气孔同时向炉体内供气，以使得炉体内的各处气体均匀地发生反应，从而在位于炉体内的不同位置处的硅片上形成厚度均匀的减反膜。

根据本实用新型的一个方面，提供了一种镀膜装置，用于在太阳能电池片的制造过程中在所述太阳能电池片的基体片上镀减反膜，所述镀膜装置包括：

炉体，所述炉体内设置有用于容纳所述基体片的容纳腔；

前法兰壁和后法兰壁，所述前法兰壁和所述后法兰壁分别设置在所述炉体的前端和后端；以及

供气装置，

所述镀膜装置上设置有连通外界和所述容纳腔的至少两组进气孔，所述供气装置能够同时通过各组所述进气孔向所述容纳腔内供气，其中第一组所述进气孔设置在所述后法兰壁上，其他所述进气孔设置在所述炉体上或所述前法兰壁上。