[实用新型]一种PECVD镀膜机

权利要求书

1.一种PECVD镀膜机，包括用于镀膜操作的真空炉腔，其特征是，还包括硅片载具，硅片载具包括多个镂空载板，多个镂空载板上下排列且等间距均布，单个镂空载板上至少设有一个镂空部位和一个安装部位；

所述真空炉腔的上表面设有台板，台板上开设有入料口，入料口连通真空炉腔内部，入料口能够允许硅片载具上下移动从而进入或退出炉腔内部；所述真空炉腔的底部设有抽真空接口。

2.根据权利要求1所述的一种PECVD镀膜机，其特征是，所述安装部位固定在载板升降组件上，所述载板升降组件安装在所述真空炉腔的一侧，所述载板升降组件的下端固定连接有两根能够穿过所有镂空载板的安装部位上的安装孔的安装杆，两根安装杆的底端固定连接在最下层的镂空载板的安装部位上。

3.根据权利要求1所述的一种PECVD镀膜机，其特征是，所述镂空载板包括方形框架和设置在方形框架中的十字形支架，所述十字形支架将所述方形框架围成的空间隔成四个等间距方形镂空区域。

4.根据权利要求1所述的一种PECVD镀膜机，其特征是，每个镂空区域内均设有卡点，卡点设置在每个镂空区域的边缘中部，且在镂空载板的厚度方向上靠近下底面布置。

5.根据权利要求1所述的一种PECVD镀膜机，其特征是，安装部位设置在方形框架其中一侧边的外侧中部，安装部位上设有两个安装孔，两个安装孔大小和形状一致，且沿方形框架的中心位置对称布置。

6.根据权利要求2所述的一种PECVD镀膜机，其特征是，所述载板升降组件包括第一升降驱动电机，所述第一升降驱动电机安装在升降驱动支架上，所述升降驱动支架可以架设在真空炉腔的上部，在所述升降驱动支架与所述真空炉腔的安装部位设有第一腔体焊接法兰，所述第一升降驱动电机连接并驱动载板升降驱动杆，所述载板升降驱动杆的最上端连接在第一动密封法兰上，所述载板升降驱动杆穿过第一腔体焊接法兰伸入到真空炉腔内，所述载板升降驱动杆的下端固定连接在最上层的镂空载板的安装部位上。

7.根据权利要求2所述的一种PECVD镀膜机，其特征是，所述镀膜机还包括载板升降模组，所述载板升降模组包括模组升降杆，模组升降杆的上端设有第二升降驱动电机，所述模组升降杆上沿其高度方向上设有升降滑轨，所述升降滑轨上安装有升降模组夹具，所述升降模组夹具分别位于升降滑轨的两侧，所述升降模组夹具能够分别通过连接块连接至升降驱动支架，并能够带动升降驱动支架上下移动从而使得所述载板升降组件上下移动，所述载板升降组件的上下移动可以带动镂空载板组向上离开真空炉腔或者向下进入真空炉腔。

8.根据权利要求1所述的一种PECVD镀膜机，其特征是，所述真空炉腔的底部的一侧设有横向推送开孔，电极推送机构能够通过横向推送开孔向内推送等离子电极，横向推送开孔的外侧通过第二腔体焊接法兰密封，第二腔体焊接法兰的外端对接第二动密封法兰，第二动密封法兰的外端对接气缸安装法兰，所述电极推送机构还包括电极推送气缸，电极推送气缸安装在气缸安装法兰上，电极推送气缸的输出端穿过气缸安装法兰，连接到气缸连接轴，气缸连接轴穿过第二动密封法兰伸入第二腔体焊接法兰内部，并在第二腔体焊接法兰内部连接电极推送杆，所述等离子电极的下端的一侧设有助推板，所述等离子电极的下表面设有横向滑块，所述真空炉腔的底部设有电极平移导轨，所述横向滑块和所述电极平移导轨匹配，所述电极推送杆能够顶抵所述助推板并推动等离子电极沿所述电极平移导轨向内移动。

9.根据权利要求8所述的一种PECVD镀膜机，其特征是，所述等离子电极包括等离子电极正极块和等离子电极负极块，所述等离子电极正极块和所述等离子电极负极块均安装固定在底板上，所述等离子电极正极块和所述等离子电极负极块朝向真空炉体内的一侧分别等间距地设置多道台阶，相邻台阶之间形成能够横向安装硅片的卡槽，同一硅片能够同时被两个电极块夹住，且其上下两面分别被等离子电极正极块和所述等离子电极负极块触碰。