[实用新型]光罩及曝光装置有效
申请号: | 202020174445.2 | 申请日: | 2020-02-14 |
公开(公告)号: | CN211627999U | 公开(公告)日: | 2020-10-02 |
发明(设计)人: | 李艳强;王震;许建勇 | 申请(专利权)人: | 南昌欧菲显示科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/40 | 分类号: | G03F1/40 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 陈秀丽 |
地址: | 330100 江*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 装置 | ||
1.一种光罩,其特征在于,包括:
透明基板;
光罩图案,设置在所述基板上,所述光罩图案包括图案部、边缘部以及引线;所述图案部和所述边缘部均不透光且均可以导电,所述图案部用于向被曝光物转印图案,所述边缘部与所述图案部间隔设置,所述边缘部具有接线端以便与外电路电连接;所述引线用于将所述图案部和所述边缘部电性连接在一起。
2.根据权利要求1所述的光罩,其特征在于,所述图案部包括间隔设置的第一区、第二区,以及连接线;其中,所述连接线将所述第一区和所述第二区电性连接在一起;及/或
所述引线的宽度为1um-2um;及/或
所述图案部的个数大于等于2,各所述图案部间隔设置;及/或
所述边缘部为环形区域,所述图案部位于所述环形区域内。
3.根据权利要求2所述的光罩,其特征在于,所述连接线与所述引线的结构设置相同。
4.根据权利要求1所述的光罩,其特征在于,所述光罩图案由设置在所述基板上的金属层经蚀刻后形成。
5.根据权利要求1所述的光罩,其特征在于,所述光罩还包括透光的保护膜,所述保护膜设置在所述光罩图案远离所述基板的表面;及/或
所述光罩还包括防指纹膜,所述防指纹膜设置在所述基板远离所述光罩图案的表面。
6.根据权利要求5所述的光罩,其特征在于,所述保护膜为绝缘膜,所述绝缘膜具有缺口以免遮挡所述接线端;及/或
所述保护膜为防指纹膜。
7.根据权利要求1所述的光罩,其特征在于,所述光罩用于制备触控膜,所述触控膜包括触控引线、信号引线以及金手指;其中,所触控引线用于形成触控电容,所述信号引线用于将所述触控电容产生的触控信号传递至所述金手指,所述金手指用于与外电路连接,以便将所述触控信号传递至处理器;
所述图案部包括用于形成所述触控引线的触控引线图案、用于形成所述信号引线的信号引线图案以及用于形成所述金手指的金手指图案;其中,所述金手指图案通过所述引线与所述边缘部电性连接。
8.根据权利要求1所述的光罩,其特征在于,所述光罩图案包括遮光层和导电层;其中,所述遮光层设置在所述基板上,所述导电层设置在所述遮光层远离所述基板的表面,或者所述导电层设置在所述基板上,所述遮光层设置在所述导电层远离所述基板的表面;
所述遮光层包括用于形成所述图案部的第一遮光图案,以及用于形成所述边缘部的第二遮光图案;所述导电层可以使光线穿过,且所述导电层与所述第一遮光图案相对的区域与所述第一遮光图案组成所述图案部,所述导电层与所述第二遮光图案相对的区域与所述第二遮光图案组成所述边缘部。
9.一种曝光装置,用于对待曝光物体进行曝光处理,其特征在于,所述曝光装置包括如权利要求1-8任意一项所述的光罩。
10.根据权利要求9所述的曝光装置,其特征在于,所述光罩的个数为两个,两个所述光罩间隔设置,所述待曝光物体可以设置在两个所述光罩之间。
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