[实用新型]光罩及曝光装置有效
申请号: | 202020174445.2 | 申请日: | 2020-02-14 |
公开(公告)号: | CN211627999U | 公开(公告)日: | 2020-10-02 |
发明(设计)人: | 李艳强;王震;许建勇 | 申请(专利权)人: | 南昌欧菲显示科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/40 | 分类号: | G03F1/40 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 陈秀丽 |
地址: | 330100 江*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 装置 | ||
本实用新型涉及一种光罩及曝光装置,该光罩包括:基板,可以使光线穿过;光罩图案,设置在基板上,光罩图案包括图案部、边缘部以及引线;所述图案部和所述边缘部均不透光且均可以导电,所述图案部用于向被曝光物转印图案,所述边缘部与所述图案部间隔设置,所述边缘部具有接线端以便与外电路电连接;所述引线用于将所述图案部和所述边缘部电性连接在一起,且光线可以从所述引线与所述基板相接的一侧传播至所述引线远离所述基板的一侧。本实用新型提供的光罩中,光罩图案的图案部和边缘部均可以导电,且二者电性连接,使用时将边缘部的接线端接地,便可以将光罩上产生的电荷便可以从接线端导入大地,从而可以避免光罩上的图案被静电击伤。
技术领域
本实用新型涉及曝光技术领域,特别是涉及一种光罩及曝光装置。
背景技术
光罩用于对待曝光物体进行曝光作业,以便将光罩上的图案转印至待曝光物体上。其中,对待曝光物体进行曝光时,光罩通常需要与待曝光物体接触,光罩在靠近或远离待曝光物体时,光罩会与空气或者待曝光物体产生摩擦,这会使光罩表面产生静电,这些静电会击伤光罩上的图案,甚至是引发安全事故。
实用新型内容
基于此,有必要针对光罩上产生的静电会击伤光罩的图案的问题,提供一种光罩及曝光装置。
一种光罩,包括:基板,可以使光线穿过;光罩图案,设置在所述基板上,所述光罩图案包括图案部、边缘部以及引线;所述图案部和所述边缘部均不透光且均可以导电,所述图案部用于向被曝光物转印图案,所述边缘部与所述图案部间隔设置,所述边缘部具有接线端以便与外电路电连接;所述引线用于将所述图案部和所述边缘部电性连接在一起,且光线可以从所述引线与所述基板相接的一侧传播至所述引线远离所述基板的一侧。
本实用新型提供的光罩中,光罩图案的图案部和边缘部均可以导电,且二者电性连接,使用时将边缘部的接线端接地,便可以将光罩上产生的电荷便可以从接线端导入大地,从而可以避免光罩上的图案被静电击伤,同时这样也可以避免因静电而引起的其他安全事故。
进一步的,所述光罩图案一次成型于所述基板,以便使光罩的生产更加简单。
进一步的,所述光罩图案由设置在所述基板上的金属层经蚀刻后形成。
进一步的,所述图案部包括间隔设置的第一区、第二区,以及连接线;其中,所述连接线将所述第一区和所述第二区电性连接在一起,这样设置可以使图案部内部各间隔设置的区域也电性连接起来,这样更利于防止光罩产生静电;及/或所述引线的宽度为1um-2um,这样光线便可以绕过引线,以便从引线与基板相接的一侧传播至引线远离基板的一侧,进而对待曝光物体与引线相对的区域进行照射。
进一步的,所述连接线与所述引线的结构设置相同。
进一步的,所述光罩还包括透光的保护膜,所述保护膜设置在所述光罩图案远离所述基板的表面,通过保护膜可以对光罩图案进行保护,有效避免光罩图案受到刮碰,进而可以提高光罩的使用寿命。
进一步的,所述保护膜为绝缘膜,所述绝缘膜具有缺口以免遮挡所述接线端。
进一步的,所述图案部的个数大于等于2,各所述图案部间隔设置,这样可以同时向待曝光物体上转印两个以上的图案,从而可以提高生产效率;及/或所述边缘部为环形区域,所述图案部位于所述环形区域内,这样更方便各图案部与边缘部电连接。
进一步的,所述光罩用于制备触控膜,所述触控膜包括触控引线、信号引线以及金手指;其中,所触控引线用于形成触控电容,所述信号引线用于将所述触控电容产生的触控信号传递至所述金手指,所述金手指用于与外电路连接,以便将所述触控信号传递至处理器;所述图案部包括用于形成所述触控引线的触控引线图案、用于形成所述信号引线的信号引线图案以及用于形成所述金手指的金手指图案;其中,所述金手指图案通过所述引线与所述边缘部电性连接。
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