[实用新型]一种纳米弧源推进装置

权利要求书

1.一种纳米弧源推进装置，其特征在于，包括安装基体，所述安装基体内设置有磁场源、阴极体和推进装置，所述阴极体包括带有作为阴极的靶材和用于固定靶材的靶材安装座，所述靶材安装座的两侧设置有滑轨，所述安装基体的内壁上设置有供所述滑轨滑动的凹槽，所述推进装置设置所述阴极体的一侧，所述推进装置推动所述阴极体在安装基体的凹槽内滑动。

2.如权利要求1所述的纳米弧源推进装置，其特征在于，所述推进装置包括升降丝杆、升降涡轮、驱动轴，所述升降涡轮设置有内螺纹和外螺纹，所述内螺纹与所述升降丝杆的螺纹匹配设置，所述外螺纹与所述驱动轴的螺纹匹配设置，所述升降丝杆的端部通过法兰与所述靶材安装座固定连接。

3.如权利要求1所述的纳米弧源推进装置，其特征在于，所述推进装置为气缸，所述气缸的活塞杆固定连接在所述靶材安装座上。

4.如权利要求1所述的纳米弧源推进装置，其特征在于，所述靶材安装座包括凸出于所述靶材安装座底部的靶材固定杆和设置所述靶材安装座内壁的夹头，所述夹头包括与所述靶材匹配的弧形夹片，所述弧形夹片与所述靶材安装座内壁之间设置有弹性元件。

5.如权利要求1所述的纳米弧源推进装置，其特征在于，所述磁场源包括缠绕在安装基体外侧的外磁场线圈和缠绕在推进装置外侧的内磁场线圈。

6.如权利要求5所述的纳米弧源推进装置，其特征在于，所述推进装置推动所述阴极体在所述外磁场线圈内移动。

7.如权利要求1所述的纳米弧源推进装置，其特征在于，所述安装基体内还设置有引弧装置，所述引弧装置的端部设置有引弧针。

8.如权利要求1所述的纳米弧源推进装置，其特征在于，所述安装基体内还设置有冷却装置，所述冷却装置包括靠近靶材安装座设置的冷却水管。