[实用新型]一种纳米弧源推进装置

说明书

本实用新型公开了一种纳米弧源推进装置，包括安装基体，所述安装基体内设置有磁场源、阴极体和推进装置，所述阴极体包括带有作为阴极的靶材和用于固定靶材的靶材安装座，所述靶材安装座的两侧设置有滑轨，所述安装基体的内壁上设置有供所述滑轨滑动的凹槽，所述推进装置设置所述阴极体的一侧，所述推进装置推动所述阴极体在安装基体的凹槽内滑动。本实用新型的纳米弧源推进装置，通过设置推进装置带动靶材移动，改变靶材端面在磁场源内的相对位置，保证在电镀的过程中，靶材消耗后，靶材端面相对于磁场源的位置不发生改变，保证电镀效果的一致性。

技术领域

本实用新型涉及电弧蒸发源镀膜装置领域，具体涉及一种纳米弧源推进装置。

背景技术

真空电弧离子镀是一种在真空环境下采用弧光放电将反应物沉积在基板上的离子镀技术。真空电弧离子镀的原理是把阴极靶作为蒸发源，通过靶与阳极壳体之间的弧光放电，使靶材蒸发，在空间中形成等离子体，从而沉积在基板上。真空电弧离子镀设备由弧光蒸发源、真空室和基板组成。在弧光蒸发源中，材料作为阴极靶，阳极和真空室相连，阴极和阳极分别接至低压大电流直流电源的负极和正极。真空室压力抽至10-3～10-1Pa。在引弧电极与阴极靶表面接触与离开的瞬间，在阴极和阳极之间形成自持弧光放电。电弧电流一般为几安至几百安，工作电压为10～25V，这时阴极表面的全部电流集中在一个或多个很小的部位，形成明亮的阴极弧斑。弧斑的直径为0.01～100μm，并以高达10m/s的速度在阴极表面随机运动，也可以利用磁场控制阴极弧斑的运动。

现有技术中，靶材的位置相对固定，靶材直接安装于阴极电弧蒸发源上，在电镀过程中，靶材被不断的消耗，靶材表面相对于磁极的位置不断在改变，从而影响电镀效果。

发明内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种纳米弧源推进装置，通过设置推进装置带动靶材移动，改变靶材端面在磁场源内的相对位置，保证在电镀的过程中，靶材消耗后，靶材端面相对于磁场源的位置不发生改变，保证电镀效果的一致性。

为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种纳米弧源推进装置，包括安装基体，所述安装基体内设置有磁场源、阴极体和推进装置，所述阴极体包括带有作为阴极的靶材和用于固定靶材的靶材安装座，所述靶材安装座的两侧设置有滑轨，所述安装基体的内壁上设置有供所述滑轨滑动的凹槽，所述推进装置设置所述阴极体的一侧，所述推进装置推动所述阴极体在安装基体的凹槽内滑动。

本实用新型一个较佳实施例中，进一步包括所述推进装置包括升降丝杆、升降涡轮、驱动轴，所述升降涡轮设置有内螺纹和外螺纹，所述内螺纹与所述升降丝杆的螺纹匹配设置，所述外螺纹与所述驱动轴的螺纹匹配设置，所述升降丝杆的端部通过法兰与所述靶材安装座固定连接。

本实用新型一个较佳实施例中，进一步包括所述推进装置为气缸，所述气缸的活塞杆固定连接在所述靶材安装座上。

本实用新型一个较佳实施例中，进一步包括所述靶材安装座包括凸出于所述靶材安装座底部的靶材固定杆和设置所述靶材安装座内壁的夹头，所述夹头包括与所述靶材匹配的弧形夹片，所述弧形夹片与所述靶材安装座内壁之间设置有弹性元件。

本实用新型一个较佳实施例中，进一步包括所述磁场源包括缠绕在安装基体外侧的外磁场线圈和缠绕在推进装置外侧的内磁场线圈。

本实用新型一个较佳实施例中，进一步包括所述推进装置推动会所述阴极体在所述外磁场线圈内移动。

本实用新型一个较佳实施例中，进一步包括所述安装基体内还设置有引弧装置，所述引弧装置的端部设置有引弧针。

本实用新型一个较佳实施例中，进一步包括所述安装基体内还设置有冷却装置，所述冷却装置包括靠近靶材安装座设置的冷却水管。