[实用新型]一种2050nm激光偏振膜

权利要求书

1.一种2050nm激光偏振膜，其特征在于：所述该激光偏振膜的膜系结构为：Sub|(HL)^sH|Air，

其中，基底材料Sub为CaF2，H代表高折射率膜层材料为Ta2O5，L代表低折射率膜层材料为SiO2，s为周期数。

2.根据权利要求1所述的2050nm激光偏振膜，其特征在于：所述s取值为17。

3.根据权利要求2所述的2050nm激光偏振膜，其特征在于：所述CaF2在2.05μm处折射率为1.4235，膜层的入射角为54.91°。

4.根据权利要求3所述的2050nm激光偏振膜，其特征在于：所述激光偏振膜用于2050nm的反射，其膜系结构为：

Sub|1.836H 0.679L 0.926H 3.009L 1.022H 1.023L 1.023H 1.000L 1.000H 1.000L1.000H

1.000L 1.000H 1.000L 1.000H 1.000L 1.000H 1.000L 1.000H 1.000L 1.000H1.000L

1.000H 1.000L 1.000H 1.000L 1.000H 1.000L 1.079H 1.018L 0.999H 3.000L1.460H 0.809L

0.610H|Air。

5.根据权利要求4所述的2050nm激光偏振膜，其特征在于：所述激光偏振膜中，与基底相邻的膜层为第1层，最外层为第35层，第1～35层的几何厚度值为；第1层450.26nm，第2层243.31nm，第3层227.09nm，第4层1078.24nm，第5层250.63nm，第6层366.58nm，第7层250.88nm，第8层358.34nm，第9层245.24nm，第10层358.34nm，第11层245.24nm，第12层358.34nm，第13层245.24nm，第14层358.34nm，第15层245.24nm，第16层358.34nm，第17层245.24nm，第18层358.34nm，第19层245.24nm，第20层358.34nm，第21层245.24nm，第22层358.34nm，第23层245.24nm，第24层358.34nm，第25层245.24nm，第26层358.34nm，第27层245.24nm，第28层358.34nm，第29层264.61nm，第30层364.79nm，第31层244.99nm，第32层1075.01nm，第33层358.05nm，第34层289.90nm，第35层149.60nm。