[实用新型]一种2050nm激光偏振膜

说明书

本实用新型公开了一种2050nm激光偏振膜，该激光偏振膜的膜系结构为：Sub|(HL)^s H|Air，其中，基底材料Sub为CaF2，H代表高折射率膜层材料为Ta2O5，L代表低折射率膜层材料为SiO2，s为周期数。本实用新型主要针对2050nm的激光波长，提供一种在布儒斯特角度(55°)范围内工作的激光偏振膜，达到一定范围内的光透过偏振能量高度分离，可广泛应用于2050nm工作波长各类激光器，探测装置、生化分析、光谱分析、机器视觉以及其它光学系统。

技术领域

本实用新型涉及一种偏振膜，尤其涉及一种2050nm激光偏振膜。

背景技术

薄膜方面，光学膜作为激光研究的关键支撑技术，在新型激光系统中，各个主要光学器件,无论是腔镜还是激光晶体，都需要高性能薄膜对特定的光谱特性以及抗损伤能力进行优化与保障，这对于激光器件的整体性能和激光技术的持续发展至关重要。

常规技术方面，为使偏振膜的光谱性能得到不断优化，技术人员提出了多种方法，例如：长波通滤光片和短波通滤光片的结合展宽了偏振带宽；使用两种以上的镀膜材料可以抑制P分量的反射；长波通滤光片可有效减少P分量光波纹；自动平衡法、自动优化对称膜系法和法布里-珀珞滤光片明显提高了偏振膜消光比，并以此为基础成功制备了较大入射角波长范围的高消光比偏振片。但是，目前只主要针对532nm和1064nm的激光波长开展设计应用。

另外值得注意的是，通常的激光偏振薄膜是针对特定单一角度入射光的情况，并且相关的偏振膜相对于其它种类的薄膜存在可变角度设计、材料选择、损伤机理分析、均匀性和抗激光能力提升等多个技术难点，这已经制约了激光系统性能的有效提升。

随着激光类仪器小型化、紧凑性的发展，激光技术要求偏振薄膜具有多种的集成光学性能，因此就需要针对工作波长与特定工作波段宽度，角度，设计复杂的专用膜系结构。近红外2050nm激光偏振膜的研究，集中体现了薄膜技术的难点，因此，急需对其进行解决。

实用新型内容

为了解决上述技术所存在的不足之处，本实用新型提供了一种2050nm激光偏振膜。

为了解决以上技术问题，本实用新型采用的技术方案是：一种2050nm激光偏振膜，该激光偏振膜的膜系结构为：Sub|(HL)^s H|Air，

其中，基底材料Sub为CaF2，H代表高折射率膜层材料为Ta2O5，L代表低折射率膜层材料为SiO2，s为周期数。

进一步地，s取值为17。

进一步地，CaF2在2.05μm处折射率为1.4235，膜层的入射角为54.91°。

进一步地，激光偏振膜用于2050nm的反射，其膜系结构为：Sub|1.836H 0.679L0.926H 3.009L 1.022H 1.023L 1.023H 1.000L 1.000H 1.000L 1.000H 1.000L 1.000H1.000L 1.000H 1.000L 1.000H 1.000L 1.000H 1.000L 1.000H 1.000L 1.000H 1.000L1.000H 1.000L 1.000H 1.000L 1.079H 1.018L 0.999H 3.000L 1.460H 0.809L 0.610H|Air。