[实用新型]共轴对位检测光学系统有效
申请号: | 202020191498.5 | 申请日: | 2020-02-21 |
公开(公告)号: | CN211234321U | 公开(公告)日: | 2020-08-11 |
发明(设计)人: | 李航宇;宋喆男;朱伟岸 | 申请(专利权)人: | 苏州灵猴机器人有限公司 |
主分类号: | G01B11/27 | 分类号: | G01B11/27 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 范晴;顾天乐 |
地址: | 215000 江苏省苏州市吴*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 对位 检测 光学系统 | ||
1.一种共轴对位检测光学系统,其特征在于,包括:上物料定位组件、下物料定位组件、立方棱镜、工业镜头和工业相机;
立方棱镜由两直角棱镜粘结得到,两直角棱镜中至少一个在粘结面镀有半透半反膜;粘结面与工业镜头对应设置,工业镜头与工业相机连接;立方棱镜设置在上物料定位组件和下物料定位组件之间;
上物料定位组件包括上环形光源和上半透半反平面镜,下物料定位组件包括下环形光源和下半透半反平面镜;上半透半反平面镜与一直角棱镜上一方形平面相对设置,下半透半反平面镜与另一直角棱镜上一方形平面相对设置,两方形平面平行设置。
2.根据权利要求1所述共轴对位检测光学系统,其特征是,所述上物料定位组件与下物料定位组件关于立方棱镜中心对称放置,且上环形光源、上半透半反平面镜、下半透半反平面镜、下环形光源和立方棱镜的几何中心在同一条垂轴上。
3.根据权利要求2所述共轴对位检测光学系统,其特征是,所述上半透半反平面镜和下半透半反平面镜均镀有半透半反膜。
4.根据权利要求1所述共轴对位检测光学系统,其特征是,所述两方形平面以及立方棱镜上靠近工业镜头一方形平面均镀有增透膜,立方棱镜上远离工业镜头一方形平面镀有反射膜。
5.根据权利要求1所述共轴对位检测光学系统,其特征是,所述共轴对位检测光学系统设置在暗室中。
6.根据权利要求5所述共轴对位检测光学系统,其特征是,对应上物料定位组件设有上背光源,对应下物料定位组件设有下背光源。
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