[实用新型]一种MOCVD反应室粉尘清理装置

权利要求书

1.一种MOCVD反应室粉尘清理装置，用于清理MOCVD反应室产生的粉尘，至少包括第一管路、收集机构、回收机构、第二管路、过滤装置和电机，所述第一管路的两端连接MOCVD反应室和收集机构，所述第二管路的两端连接收集机构和过滤机构，其特征在于：所述收集机构和回收机构之间还包括喷砂机构，所述喷砂机构包括内壁、外壁、上盖板和下盖板，所述上盖板和下盖板可活动地分别位于内壁和外壁的上端和下端，且与内壁和外壁围成腔室，所述腔室内存放阻火介质，所述喷砂机构中间具有贯穿的开口，收集机构内底部插入开口内，粉尘穿过开口进入回收机构内。

2.根据权利要求1所述的一种MOCVD反应室粉尘清理装置，其特征在于：所述上盖板的一端固定，另一端相对于外壁上下移动，以向腔室内补充阻火介质。

3.根据权利要求1所述的一种MOCVD反应室粉尘清理装置，其特征在于：所述下盖板相对于内壁和外壁水平移动，将腔室内阻火介质释放进入回收机构并覆盖回收机构内的粉尘。

4.根据权利要求1所述的一种MOCVD反应室粉尘清理装置，其特征在于：所述外壁连接复数个气孔，惰性气体通过气孔进入腔室内，将阻火介质吹散并充分腔室。

5.根据权利要求1所述的一种MOCVD反应室粉尘清理装置，其特征在于：所述第一管路上设置第一阻火装置。

6.根据权利要求5所述的一种MOCVD反应室粉尘清理装置，其特征在于：所述第二管路上设置第二阻火装置。

7.根据权利要求6所述的一种MOCVD反应室粉尘清理装置，其特征在于：所述第一阻火装置和第二阻火装置均为两端直径大于中间直径的结构。

8.根据权利要求1所述的一种MOCVD反应室粉尘清理装置，其特征在于：所述收集机构为旋风筒结构。

9.根据权利要求1所述的一种MOCVD反应室粉尘清理装置，其特征在于：所述收集机构外侧具有第一冷却腔，冷却液进入第一冷却腔内降低收集机构的温度。

10.根据权利要求9所述的一种MOCVD反应室粉尘清理装置，其特征在于：所述回收机构外侧具有第二冷却腔，冷却液进入第一冷却腔和第二冷却腔降低收集机构和回收机构的温度。