[实用新型]一种MOCVD反应室粉尘清理装置

说明书

本实用新型半导体设备领域，尤其涉及一种MOCVD反应室粉尘清理装置，用于清理MOCVD产生的粉尘，至少包括第一管路、收集机构、回收机构、第二管路、过滤装置和电机，其特征在于：所述收集机构和回收机构之间还包括喷砂机构，所述喷砂机构包括内壁、外壁、上盖板和下盖板，所述上盖板和下盖板可活动地分别位于内壁和外壁的上端和下端，且与内壁和外壁围成腔室，所述腔室内存放阻火介质，所述喷砂机构中间具有贯穿的开口，收集机构内底部插入开口内，粉尘穿过开口进入回收机构内。本实用新型可以实现清理MOCVD反应室的粉尘，解决粉尘易燃问题，减少机台待机时间，进而提升产能。

技术领域

本实用新型属于半导体设备领域，尤其涉及一种MOCVD反应室粉尘清理装置。

背景技术

目前在LED行业内使用的清理MOCVD反应室特殊粉尘的吸尘器，均是一般的工业使用吸尘器。而因外延层制备过程中会使用到有机金属材料，所以MOCVD反应室内部的粉尘具有一种见空气和水易燃的特征，正常清理作业时需要等待反应室内的粉尘和空气完全反应后，方可使用工业吸尘器对其进行清理。因此存在必须等待的时间浪费，即反应室内部的特殊粉尘和空气反应时间，影响了生产的效率。

因此我们急需找出一种能快速清理MOCVD反应腔室的清洁装置，以提升工作效率，减少机台待机时间。

发明内容

为解决上述的问题，本实用新型提供了一种MOCVD反应室粉尘清理装置，用于清理MOCVD反应室产生的粉尘，至少包括第一管路、收集机构、回收机构、第二管路、过滤装置和电机，所述第一管路的两端连接MOCVD反应室和收集机构，所述第二管路的两端连接收集机构和过滤机构，其特征在于：所述收集机构和回收机构之间还包括喷砂机构，所述喷砂机构包括内壁、外壁、上盖板和下盖板，所述上盖板和下盖板可活动地分别位于内壁和外壁的上端和下端，且与内壁和外壁围成腔室，所述腔室内存放阻火介质，所述喷砂机构中间具有贯穿的开口，收集机构内底部插入开口内，粉尘穿过开口进入回收机构内。

优选的，所述上盖板的一端固定，另一端相对于外壁上下移动，以向腔室内补充阻火介质。

优选的，所述下盖板相对于内壁和外壁水平移动，将腔室内阻火介质释放进入回收机构并覆盖回收机构内的粉尘。

优选的，所述外壁连接复数个气孔，惰性气体通过气孔进入腔室内，将阻火介质吹散并充分腔室。

优选的，所述第一管路上设置第一阻火装置。进一步地，所述第二管路上设置第二阻火装置。其中，所述第一阻火装置和第二阻火装置均为两端直径大于中间直径的结构。

优选的，所述收集机构为旋风筒结构。

优选的，所述收集机构外侧具有第一冷却腔，冷却液进入第一冷却腔内降低收集机构的温度。进一步地，所述回收机构外侧具有第二冷却腔，冷却液进入第一冷却腔和第二冷却腔降低收集机构和回收机构的温度。其中，第一冷却腔和第二冷却腔还通过冷却管与恒温槽连接，以循环向第一冷却腔和第二冷却腔内供给冷却液。

本实用新型通过在现有的MOCVD反应室粉尘清理装置相比，一方面增设喷砂装置，采用其内的阻火介质覆盖粉尘，隔绝粉尘与空气接触，防止其因与空气接触反应而产生的燃烧；另一方面，在第一管路和第二管路上增设两端直径大于中间直径的阻火装置，降低粉尘的温度，从而进一步地减少MOCVD反应室在清理反应腔室时的待机时间，进而提升产能。

附图说明

图1 为本实用新型之实施例一之清洁装置之剖视结构示意图。

图2为本实用新型之之实施例一喷砂装置之补充砂砾状态结构示意图。

图3为本实用新型之之实施例一喷砂装置之释放砂砾状态结构示意图。

图4为本实用新型之实施例二之清洁装置之剖视结构示意图。