[实用新型]一种外延生长设备的反应室结构

权利要求书

1.一种外延生长设备的反应室结构，其特征在于，包括：

石英管，所述石英管为两端设有开口的圆形筒体结构，所述石英管的上部中间位置垂直设有第一圆筒，所述第一圆筒与所述石英管贯穿连接；

感应加热装置，所述感应加热装置活动设置在所述石英管的外部；

反应腔室组件，所述反应腔室组件为两个，两个所述反应腔室组件活动设置所述石英管的内部，两个所述反应腔室组件对称设置在所述第一圆筒的两侧；

分气组件，所述分气组件活动设置在所述石英管内并与所述第一圆筒活动连接；

抽气组件，所述抽气组件为两个，两个所述抽气组件分别设置在所述石英管的两端，两个所述抽气组件分别与所述反应腔室组件活动连接。

2.根据权利要求1所述的一种外延生长设备的反应室结构，其特征在于，所述抽气组件包括端板及与所述端板连接的气管，所述端板半嵌入设置在所述石英管的端部，所述端板与所述石英管相匹配，所述端板上设有传片通道孔、第一进气孔、第二进气孔，所述第一进气孔、第二进气孔分别位于在所述传片通道孔的上部和下部，所述第一进气孔、第二进气孔分别与所述气管贯穿连接。

3.根据权利要求2所述的一种外延生长设备的反应室结构，其特征在于，所述传片通道孔为矩形孔，所述传片通道孔水平贯穿所述端板设置。

4.根据权利要求3所述的一种外延生长设备的反应室结构，其特征在于，所述分气组件为截面是工字形的结构体，所述分气组件包括第一分气板、连接板、第二分气板，所述连接板垂直设置在所述第一分气板、第二分气板的中部。

5.根据权利要求4所述的一种外延生长设备的反应室结构，其特征在于，所述第一分气板为圆形阶梯状，所述第一分气板与所述第一圆筒相匹配，所述第一分气板的中部设有多个第一气孔，多个所述第一气孔均匀排列，所述第二分气板为矩形体，所述第二分气板上设有多个第二气孔、第三气孔，多个所述第二气孔水平设置，多个所述第三气孔贯穿所述第二分气板，多个所述第一气孔与多个所述第二气孔贯穿连接。

6.根据权利要求5所述的一种外延生长设备的反应室结构，其特征在于，所述反应腔室组件包括进气挡板、出气挡板、第一加热层组件、第二加热层组件，所述第一加热层组件活动设置在所述第二加热层组件的上部，所述进气挡板、出气挡板分别活动设置在所述第一加热层组件、第二加热层组件的两端，所述进气挡板、出气挡板上分别对应设有与所述传片通道孔相匹配的第二矩形孔、第三矩形孔。

7.根据权利要求6所述的一种外延生长设备的反应室结构，其特征在于，所述第一加热层组件包括第一加热层、第一绝缘保温衬，所述第一绝缘保温衬活动设置在所述第一加热层的外部，所述第一绝缘保温衬与所述第一加热层相匹配，

所述第二加热层组件包括第二加热层、第二绝缘保温衬、晶元托盘，所述第二绝缘保温衬活动设置在所述第二加热层的外部，所述晶元托盘活动设置在所述第二加热层的上部，所述晶元托盘通过设置在所述第二加热层上部的旋转机构与所述第二加热层连接，所述第二绝缘保温衬与所述第二加热层相匹配，

所述第一加热层与所述第二加热层相对设置，所述第一加热层、所述第二加热层位于所述第二分气板的两侧。

8.根据权利要求7所述的一种外延生长设备的反应室结构，其特征在于，所述第一加热层、第二加热层为包括由石墨、和/或碳化硅在内的耐高温导热材料制作。

9.根据权利要求1所述的一种外延生长设备的反应室结构，其特征在于，所述感应加热装置包括感应线圈在内的多种加热方式，所述感应线圈均匀绕制在所述石英管的外部。