[实用新型]一种容性耦合滤波器有效
| 申请号： | 202020210980.9 | 申请日： | 2020-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN211150736U | 公开（公告）日： | 2020-07-31 |
| 发明（设计）人： | 何进军;韦俊杰;陈鹏;李朝勇 | 申请（专利权）人： | 重庆思睿创瓷电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01P1/20 | 分类号： | H01P1/20 |
| 代理公司： | 重庆强大凯创专利代理事务所(普通合伙) 50217 | 代理人： | 蒙捷 |
| 地址： | 401346 重庆市巴*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 耦合 滤波器 | ||
1.一种容性耦合滤波器，包括介质体，所述介质体外包覆有屏蔽层，所述介质体至少包括两个相邻的谐振部，所述谐振部之间的介质体上设有用于实现两个谐振部容性耦合的容性耦合孔，其特征在于：还包括至少一个调谐槽，所述调谐槽设置在容性耦合孔朝向谐振部的两侧的介质体上。
2.根据权利要求1所述的一种容性耦合滤波器，其特征在于：所述调谐槽开槽面与容性耦合孔口位于介质体的不同面。
3.根据权利要求1所述的一种容性耦合滤波器，其特征在于：所述调谐槽表面包覆有屏蔽层。
4.根据权利要求3所述的一种容性耦合滤波器，其特征在于：所述容性耦合孔和/或调谐槽的部分表面未包覆屏蔽层。
5.根据权利要求4所述的一种容性耦合滤波器，其特征在于：所述容性耦合孔和/或调谐槽表面未被屏蔽层覆盖的部分的面积与容性耦合孔所在位置相邻的两个谐振部之间的容性耦合的耦合量相关。
6.根据权利要求1所述的一种容性耦合滤波器，其特征在于：所述调谐槽与容性耦合孔的距离与容性耦合孔所在位置相邻的两个谐振部之间的容性耦合的耦合量相关。
7.根据权利要求1所述的一种容性耦合滤波器，其特征在于：所述调谐槽与容性耦合孔的相对面积与容性耦合孔所在位置相邻的两个谐振部之间的容性耦合的耦合量相关。
8.根据权利要求1所述的一种容性耦合滤波器，其特征在于：所述调谐槽为半通槽。
9.根据权利要求1所述的一种容性耦合滤波器，其特征在于：所述调谐槽为封闭槽。
10.根据权利要求1所述的一种容性耦合滤波器，其特征在于：所述调谐槽为两个，分别设置在容性耦合孔朝向谐振部的两侧。
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