[实用新型]多功能纳米真空蒸发源有效
申请号: | 202020211269.5 | 申请日: | 2020-02-25 |
公开(公告)号: | CN211689207U | 公开(公告)日: | 2020-10-16 |
发明(设计)人: | 王宁 | 申请(专利权)人: | 苏州泓沵达仪器科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 |
代理公司: | 无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙) 32260 | 代理人: | 许云峰 |
地址: | 215000 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多功能 纳米 真空 蒸发 | ||
本实用新型公开了一种多功能纳米真空蒸发源,其包括坩埚、加热单元和冷却套。加热单元包括套设于坩埚外侧面的加热套体、电加热管、限位块和限位弹簧。本实用新型的坩埚采用热解氮化硼材质制备。在加热套体内壁的外表面设置有多个向加热套体的中轴线凹陷的容纳槽,在每个容纳槽中分别设置有一个电加热管。冷却套体设置在加热套体的外部,在冷却套体的上端设置有冷媒入口,在冷却套体的下端设置有冷媒出口。本实用新型多功能纳米真空蒸发源能够同时满足对金属材料和有机材料的蒸镀需求,其具有更高的加热效率,并能在需要的时候对蒸发源进行降温,确保其正常工作。
技术领域
本实用新型涉及一种多功能纳米真空蒸发源。
背景技术
真空镀膜因其具有高效和良好的镀膜效果而取得广泛的应用。真空镀膜是在真空环境下,对源材料进行加热,使其形成蒸汽流并从蒸发源中逸出,随后在预设于基板上的物体表面凝结成膜。蒸发源是真空镀膜装置中最关键的部件,通常的蒸发源中的坩埚大多采用石英玻璃材质,因而造成蒸发源的加热温度不能过高,仅适用于有机材料的蒸发,而对于一些熔点较高的金属(如金、银、铜、铬、钛等)的蒸镀则无法顺利完成。而且,随着加热温度的升高,在对源材料进行加热的过程,热量损失比较大,因而严重影响了蒸镀效率。此外,现有的用于金属蒸镀的纳米真空蒸发源缺乏降温功能,因而会造成蒸发源的温度过高而影响蒸发源的正常工作。
发明内容
为了解决上述技术问题,本实用新型提供了一种多功能纳米真空蒸发源,其效率高,能够满足较高温度的蒸镀需求,并具有降温组件,确保蒸发源的正常工作过程不会受到影响。
本实用新型的多功能纳米真空蒸发源包括坩埚和加热单元,所述加热单元包括套设于所述坩埚外侧面的加热套体,所述加热套体在靠近所述坩埚一侧的侧壁为加热套体内壁,所述加热套体的远离所述加热套体内壁的侧壁为加热套体外壁,在所述加热套体内壁与所述加热套体外壁之间具有加热套体空腔,在所述加热套体内壁的外表面设置有多个向所述加热套体的中轴线凹陷的容纳槽,在每个所述容纳槽内分别设置有至少一个加热元件,所述坩埚为热解氮化硼材质的坩埚。本实用新型的多功能纳米真空蒸发源的能耐受超过2000℃的加热温度,同时满足对多种金属以及有机材料的真空蒸镀需求,通过将加热元件设置于容纳槽中,使得加热元件产生的热量更快更有效的传递至坩埚中,具有更高的加热效率。
进一步的,在所述加热套体的外部还设置有冷却套体,在所述冷却套体内设置有供冷媒流动的空腔,所述冷却套体的上端设置有冷媒入口,在所述冷却套体的下端设置有冷媒出口,在所述冷媒入口与所述冷媒出口分别通过管路外接于冷媒储存装置。因而,在冷却套体的作用下能够实现对蒸发源进行快速降温,确保其能正常工作。
更进一步的,在所述加热套体内壁与所述加热套体外壁之间还设置有至少一个导热的金属块,所述金属块沿着所述坩埚的高度方向设置,所述金属块分别与所述加热套体内壁和所述加热套体外壁相抵触。因而,在金属块的作用下能实现冷却套体与坩埚间快速进行热量传递,达到快速降温的效果。
更进一步的,包括能与每个所述加热元件相抵触的限位块,所述限位块沿着所述加热元件的长度方向设置。
更进一步的,在每个所述限位块上设置有至少一根限位弹簧,所述限位弹簧的一端与所述限位块固定,另一端与所述加热套体外壁的内侧面固定,在所述限位弹簧处于放松状态时,所述限位块与所述加热元件相抵靠。因而,在限位弹簧的作用下,能够使得限位块与加热元件紧密抵靠,并将加热元件与加热套体内壁相抵靠,从而确保电加热管能将其发热产生的热量充分传递给坩埚,使得本实用新型的纳米真空蒸发源具有更高的蒸发效率。
更进一步的,在所述限位块的靠近所述加热元件一侧设置有与所述加热元件的形状相匹配的限位槽。
进一步的,还包括与所述加热套体的下端连接的连接板,在所述连接板上与各个所述加热元件相对应的设置有通孔,在所述通孔处设置有与所述加热元件相连通的接口,所述接口与电源连通。
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