[实用新型]一种多功能纳米真空镀膜仪

权利要求书

1.一种多功能纳米真空镀膜仪，包括真空腔体(1)，所述真空腔体(1)内设置有样品台(2)、蒸镀源(3)，所述样品台(2)位于真空腔体(1)内的上方、所述蒸镀源(3)位于真空腔体(1)内的下方，其特征在于：所述样品台(2)由翻转机构驱动其能翻转180°，所述蒸镀源(3)内填充有镀膜材料(4)，所述蒸镀源(3)的顶部设置有开孔(5)，所述开孔(5)上端的孔径小于下端的孔径，挡板设置在样品台(2)与蒸镀源(3)之间，所述挡板的一侧设置有平移机构，所述平移机构能驱动挡板远离样品台(2)、蒸镀源(3)之间。

2.根据权利要求1所述的多功能纳米真空镀膜仪，其特征在于：所述翻转机构包括伺服电机(7)，所述伺服电机(7)固定在真空腔体(1)上，所述样品台(2)与伺服电机(7)的输出轴固定连接，所述样品台(2)上开设有多组基片通孔(8)，每组基片通孔(8)内夹持有被镀基片板组(9)。

3.根据权利要求2所述的多功能纳米真空镀膜仪，其特征在于：每组所述基片通孔(8)的四周设置有凹槽(10)，所述被镀基片板组(9)卡设在凹槽(10)处，并通过磁铁(11)吸附。

4.根据权利要求1所述的多功能纳米真空镀膜仪，其特征在于：所述蒸镀源(3)的顶部为圆弧形，所述开孔(5)设置在圆弧形的顶部。

5.根据权利要求1所述的多功能纳米真空镀膜仪，其特征在于：所述平移机构包括平移气缸(12)，所述挡板固定在平移气缸(12)的伸缩轴端部。

6.根据权利要求5所述的多功能纳米真空镀膜仪，其特征在于：所述挡板包括扩散板(13)、遮挡板(6)，所述扩散板(13)上设置有多个扩散孔(14)，所述遮挡板(6)位于扩散板(13)的上方，所述遮挡板(6)与所述平移气缸(12)的伸缩轴固定连接。

7.根据权利要求6所述的多功能纳米真空镀膜仪，其特征在于：中间的所述扩散孔(14)呈垂直状，四周的所述的扩散孔(14)倾斜设置。