[实用新型]一种多功能纳米真空镀膜仪

说明书

本实用新型涉及一种多功能纳米真空镀膜仪，包括真空腔体，所述真空腔体内设置有样品台、蒸镀源，所述样品台位于真空腔体内的上方、所述蒸镀源位于真空腔体内的下方，所述样品台由翻转机构驱动其能翻转180°，所述蒸镀源内填充有镀膜材料，所述蒸镀源的顶部设置有开孔，所述开孔上端的孔径小于下端的孔径，所述挡板设置在样品台与蒸镀源之间，所述挡板的一侧设置有平移机构，所述平移机构能驱动挡板远离样品台、蒸镀源之间。本实用新型能对基片的两面进行镀膜、增加原材料有效利用率、并能隔离蒸镀源与样品台。

技术领域

本实用新型一种多功能纳米真空镀膜仪。

背景技术

光学薄膜基本上是通过干涉作用而达到其效果，是指在光学组件上或独立基板上镀上一层或多层介电质膜或金属膜或介电质膜膜堆或金属膜膜堆来改变光波传递特性，而目前很多光学仪器，如传感器、半导体雷射、干涉仪、近视眼镜、光纤通讯等。目前，光学薄膜制作以物理蒸镀法为主(physics vapor deposition，简称PVD)，该方法为将薄膜材料由固态转化为气态或离子态，气态或离子态材料，由蒸发源穿越空间，抵达玻璃表面，材料抵达玻璃表面后，将沉积而逐渐形成薄膜。通常，为使制作的薄膜拥有高纯度，镀膜的制程须于高真空环境下完成。由此延伸出真空镀膜，一般做法为将基片以超音波洗净机洗净，洗净后排上央具，送入镀膜机，开始加热和抽真空，达到高真空后，开始镀膜。镀膜时，以电子枪方式或电阻式对蒸镀源加热，将镀膜材料变成离子态，蒸镀时间则视层数和程序不同而有长短。镀膜完毕后，待温度冷却后取出。

目前的多功能纳米真空镀膜仪具有以下问题：其一，无法对基片进行两面镀膜，仅能对一面进行镀膜；其二，蒸镀源的U形坩埚而言，源材料在蒸发时的散射面较大，源材料的利用率不高，增加了源材料的浪费；其三，蒸镀源与样品台之间无阻挡，无法隔离蒸镀源与样品台。

实用新型内容

为克服上述缺点，本实用新型的目的在于提供一种能对基片的两面进行镀膜、增加原材料有效利用率、并能隔离蒸镀源与样品台的多功能纳米真空镀膜仪。

为了达到以上目的，本实用新型采用的技术方案是：一种多功能纳米真空镀膜仪，包括真空腔体，所述真空腔体内设置有样品台、蒸镀源以及挡板，所述样品台位于真空腔体内的上方、所述蒸镀源位于真空腔体内的下方，所述挡板设置在样品台与蒸镀源之间，所述样品台由翻转机构驱动其能翻转180°，所述蒸镀源内填充有镀膜材料，所述蒸镀源的顶部设置有开孔，所述开孔上端的孔径小于下端的孔径，所述挡板的一侧设置有平移机构，所述平移机构能驱动挡板远离样品台、蒸镀源之间。

本实用新型多功能纳米真空镀膜仪的有益效果是，通过翻转机构的设置，能将样品台在真空腔体内进行翻转，能对待镀基片的正反面进行镀膜，提高了效率；将蒸镀源顶部的开口设置呈上端的孔径小于下端的孔径，可以提高源材料的有效利用率，减少了源材料的浪费；此外，能隔离蒸镀源与样品台，适用于各种使用环境。

优选地，所述翻转机构包括伺服电机，所述伺服电机固定在真空腔体上，所述样品台与伺服电机的输出轴固定连接，所述样品台上开设有多组基片通孔，每组基片通孔内夹持有被镀基片板组。伺服电机控制翻转板旋转180度，翻转角度可控。本申请将被镀基片板组设置在一块翻转板的多组基片通孔时，可以通过一个伺服电机即可控制整个基片的翻转，结构简单。

优选地，每组所述基片通孔的四周设置有凹槽，所述被镀基片板组卡设在凹槽处，并通过磁铁吸附。凹槽起到限位作用，磁铁吸附，能实现对被镀基片板的吸附。

优选地，所述蒸镀源的顶部为圆弧形，所述开孔设置在圆弧形的顶部。

优选地，所述平移机构包括平移气缸，所述挡板固定在平移气缸的伸缩轴端部。

优选地，所述挡板包括扩散板、遮挡板，所述扩散板上设置有多个扩散孔，所述遮挡板位于扩散板的上方，且与所述平移气缸的伸缩轴固定连接。扩散孔用以将气态或离子态材料扩散至被镀基片的下方，保证了被镀的均匀性。