[实用新型]一种纳米真空镀膜仪

说明书

本实用新型公开了一种纳米真空镀膜仪，包括镀膜筒体、蒸发箱和抽气装置，镀膜筒体内设置有真空镀膜室，真空镀膜室通过第一管道与蒸发箱连通，蒸发箱通过第二管道与抽气装置连通，真空镀膜室内设置有旋转机构，旋转机构包括电机和旋转柱，电机设置在镀膜筒体上且电机的输出轴与旋转柱的一端连接，旋转柱的另一端穿过真空镀膜室一侧且旋转柱上设置有旋转台，旋转台位于真空镀膜室内，旋转台上设置有固定柱，本实用新型的目的在于提供易于在工件上均匀成膜的一种纳米真空镀膜仪。

技术领域

本实用新型涉及机械领域，尤其涉及一种真空镀膜仪。

背景技术

真空镀膜是在真空环境下，将某种金属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面形成镀膜层的一种技术，现有的纳米真空镀膜仪，在对工件镀膜的过程中，由于工件表面很大，在蒸发镀膜材料的时候，喷出来的材料很难均匀覆盖到工件表面，因此对于一种纳米真空镀膜仪，工件上的镀膜材料不均匀导致工件上形成膜不合格是我们要解决的问题。

实用新型内容

为克服上述缺点，本实用新型的目的在于提供易于在工件上均匀成膜的一种纳米真空镀膜仪。

为了达到以上目的，本实用新型采用的技术方案是：一种纳米真空镀膜仪，包括镀膜筒体、蒸发箱和抽气装置，镀膜筒体内设置有真空镀膜室，真空镀膜室通过第一管道与蒸发箱连通，蒸发箱通过第二管道与抽气装置连通，真空镀膜室内设置有旋转机构，旋转机构包括电机和旋转柱，电机设置在镀膜筒体上且电机的输出轴与旋转柱的一端连接，旋转柱的另一端穿过真空镀膜室一侧且旋转柱上设置有旋转台，旋转台位于真空镀膜室内，旋转台上设置有固定柱。

本实用新型一种纳米真空镀膜仪的有益效果是：开始工作时，抽气装置进行抽真空，使蒸发箱和抽气装置成真空状态，镀膜材料放入蒸发箱，蒸发箱蒸发镀膜材料，蒸发后的镀膜材料再进入到镀膜筒体内的真空镀膜室，从而使真空镀膜室内的待镀工件的表面会附着有一层镀膜材料，待镀工件放在旋转台上，蒸发后的镀膜材料喷覆在待镀工件上，固定柱将待镀工件固定在旋转台上，电机转动带动旋转柱旋转，进而使与旋转柱连接的旋转台旋转，带动了待镀工件旋转，电机带动待镀工件不停旋转，使镀膜材料均匀的喷覆在待镀工件，待镀工件的面上均匀的粘覆上镀膜材料，大大的提高了待镀工件上均匀形成膜的合格率。

作为本实用新型的进一步改进是，还包括机架，镀膜筒体、蒸发箱和抽气装置均设置在机架上，机架设置有多个脚架，多个脚架与工作地面接触。多个脚架使机架稳定在工作地面上，进而使真空镀膜仪在工作时保持稳定。

作为本实用新型的进一步改进是，蒸发箱设置有进料口，镀膜筒体上设置有开口，开口与真空镀膜室相通，进料口和开口上都设置有门板，两个门板分别与蒸发箱和镀膜筒体转动连接，两个门板分别将进料口和开口覆盖。开始工作时，打开蒸发箱上的门板，从进料口将镀膜材料放入蒸发箱，将镀膜材料进行蒸发，打开镀膜筒体的门板，从开口将待镀工件放入真空膜镀室，蒸发后的镀膜材料进入真空膜镀室对待镀工件进行喷覆。

作为本实用新型的进一步改进是，真空镀膜室和蒸发箱之间设置有铁丝网格，蒸发后的镀膜材料从蒸发箱进入真空镀膜室，蒸发后的镀膜材料先经过铁丝网格，镀膜材料从若干个网孔经过后，每个网孔内散发出去的镀膜薄膜材料的量大致相同，进一步使镀膜材料均匀的覆盖到待镀工件表面。

作为本实用新型的进一步改进是，镀膜筒体和蒸发箱的外部均包裹有隔热板，隔热板将镀膜筒体和蒸发箱进行包裹，避免了人工操作时被烫伤的风险。

作为本实用新型的进一步改进是，抽气装置为通过第三管道依次连通的扩散泵、涡轮真空泵和前级泵，前级泵的一端与蒸发箱通过第二管道连通，通过扩散泵、涡轮真空泵和前级泵将蒸发箱、真空镀膜室抽成真空。

附图说明

图1为本实施例的剖视图。

图中：