[实用新型]一种热蒸发镀膜用旋转非球面夹具

说明书

本实用新型公开了一种热蒸发镀膜用旋转非球面夹具，所述非球面夹具的内腔结构包括平面状的顶面及顶面边缘向外呈弧状延伸形成的坡面，且顶面与坡面平滑过渡呈一体成型结构，应用于镀膜机上，在进行镀膜时不依靠专门的膜厚修正系统，仅通过将现有的旋转球面夹具改成本旋转非球面夹具，即可使镀膜机的膜厚分布均匀性满足实际生产需要。

技术领域

本实用新型涉及光学薄膜加工技术等领域，具体的说，是一种热蒸发镀膜用旋转非球面夹具。

背景技术

电子束蒸发镀膜机的薄膜厚度分布均匀性是衡量设备性能的最关键指标之一。旋转球面夹具是传统光学镀膜设备上普遍采用的一种配置。但薄膜在旋转球面夹具上的膜厚分布并非是天生均匀的。对于确定的镀膜工艺，膜厚分布不仅与机器本身的空间结构有关，比如蒸发源与旋转球面夹具的几何位置关系等，而且与旋转球面夹具的具体几何形状有关。机器的空间结构在出厂前已经由设备制造商确定而无法更改。因此，对于大部分用户来讲，更改夹具形状成为最经济实用快捷的方法之一。通常改善膜厚分布均匀性的方法是改变球面夹具的曲率半径，但这种方式对均匀性的改善效果很有限，必须进一步借助专门的膜厚修正系统才能是均匀性达到生产需求。而膜厚修正系统会遮挡蒸发的膜料，从而降低镀膜的效率。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种热蒸发镀膜用旋转非球面夹具，应用于镀膜机上，在进行镀膜时不依靠专门的膜厚修正系统，仅通过将现有的旋转球面夹具改成本旋转非球面夹具，即可使镀膜机的膜厚分布均匀性满足实际生产需要。

本实用新型通过下述技术方案实现：一种热蒸发镀膜用旋转非球面夹具，所述非球面夹具的内腔结构包括平面状的顶面及顶面边缘向外呈弧状延伸形成的坡面。

由于膜厚分布与旋转夹具不同位置距离蒸发源面的高度有关。因此，在不改变现有镀膜设备内部结构的情况下，通过对理论膜厚的计算，改变不同半径处夹具距离蒸发源的高度，理论上可以做出均匀性有明显改善的非球面。此非球面夹具的内腔结构由平面状的顶面和在顶面边缘向外呈弧状延伸的坡面两部分组成。在具体设置是，该非球面夹具最终根据镀膜机的实际腔体尺寸、机械结构计算而设计。

进一步为更好地实现本实用新型，特别采用下述设置结构：所述顶面的边缘与坡面的衔接处平滑过渡。

进一步为更好地实现本实用新型，特别采用下述设置结构：所述顶面与坡面一体成型。

本实用新型与现有技术相比，具有以下优点及有益效果：

（1）本实用新型应用于镀膜机上，在进行镀膜时不依靠专门的膜厚修正系统，仅通过将现有的旋转球面夹具改成本旋转非球面夹具，即可使镀膜机的膜厚分布均匀性满足实际生产需要。

（2）本实用新型在实际应用时，可大幅度提高膜料蒸发的利用率，改善薄膜厚度分布的均匀性；针对特殊应用，经过计算，可以简化镀膜机的机械结构，在保证产品质量和良品率的情况下，降低设备的制造成本；具有针对性强，适用范围广，进一步提高现有镀膜机的利用率及产品的良品率等特点。

附图说明

图1为蒸发源与真空室腔体中心距为400mm时，旋转平面夹具在不同高度下的膜厚分布示意图。

图2为根据图1实验数据设计出的旋转非球面夹具示意图。

具体实施方式

下面结合实施例对本实用新型作进一步地详细说明，但本实用新型的实施方式不限于此。

值得注意的是，在本实用新型的实际应用中，不可避免的会应用到软件程序，但申请人在此声明，该技术方案在具体实施时所应用的软件程序皆为现有技术，在本申请中，不涉及到软件程序的更改及保护，只是对为实现发明目的而设计的硬件架构的保护。