[实用新型]存储器制作装置

权利要求书

1.一种存储器制作装置，其特征在于，包括：

容腔；

托盘，位于所述容腔内；

一个或多个第一类喷嘴，位于所述容腔内；

一个或多个第二类喷嘴，位于所述容腔内；

其中，所述第一类喷嘴的喷气口与所述托盘的中心之间的距离为第一距离，所述第二类喷嘴的喷气口与所述托盘的中心之间的距离为第二距离；

所述第二距离为一数值，所述第二距离小于所述第一距离；或者，

所述第二类喷嘴为活动喷嘴，使得所述第二距离为若干个数值构成的组合或为数值范围，所述第二距离中的最小值小于所述第一距离；

所述第一类喷嘴和所述第二类喷嘴，用于喷出第一气体。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，多个所述第一类喷嘴和多个所述第二类喷嘴在所述容腔的周向方向上交叉分布。

3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，

多个所述第一类喷嘴以所述容腔的中心为对称中心，在所述周向方向上等角度分布在所述容腔内；

多个所述第二类喷嘴以所述容腔的中心为对称中心，在所述周向方向上等角度分布在所述容腔内。

4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，

所述托盘为活动托盘；所述活动托盘，能够以所述容腔的中心轴为旋转轴进行旋转。

5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：

第一供气箱，用于提供所述第一气体；

所述第一类喷嘴和所述第二类喷嘴均通过第一类进气管，与所述第一供气箱连通；

在所述第一类进气管上设置有控制所述第一气体流通的第一类受控阀门。

6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：

第三类喷嘴，位于所述容腔内，且位于第一类喷嘴和所述第二类喷嘴所在平面的垂直平面内，用于向位于所述托盘上的目标物喷出第二气体；

其中，所述第二气体，能够与所述第一气体反应以在所述目标物表面形成薄膜。

7.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：

第二供气箱，用于提供所述第二气体；

所述第三类喷嘴通过第二类进气管与第二供气箱连通，且在与所述第三类喷嘴连接的所述第二类进气管上设置有控制所述第二气体流通的第二类受控阀门。

8.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，

所述装置包括等离子体气相沉积装置；

位于所述托盘上的目标物包括晶圆。

9.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，

所述多个第一类喷嘴的数量为偶数；

所述多个第二类喷嘴的数量为偶数。