[实用新型]一种取向硅钢渗氮装置用真空控制结构有效
| 申请号： | 202020256647.1 | 申请日： | 2020-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN212102984U | 公开（公告）日： | 2020-12-08 |
| 发明（设计）人： | 裴英豪;朱涛;夏雪兰;胡柯;杜军;陈友根;武战军;祁旋 | 申请（专利权）人： | 马鞍山钢铁股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C8/02 | 分类号： | C23C8/02;C23C8/38 |
| 代理公司： | 芜湖安汇知识产权代理有限公司 34107 | 代理人： | 蒋兵魁 |
| 地址： | 243041 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 取向 硅钢 装置 真空 控制 结构 | ||
1.一种取向硅钢渗氮装置用真空控制结构，其特征在于：所述的取向硅钢渗氮装置用真空控制结构包括渗氮装置壳体(1)，渗氮装置壳体(1)上设置开口部(2)，开口部(2)内安装导电密封辊(3)和非接触密封辊(4)，所述的导电密封辊(3)和非接触密封辊(4)之间形成取向硅钢处理腔体(5)，导电密封辊(3)与电源(6)连接。
2.根据权利要求1所述的取向硅钢渗氮装置用真空控制结构，其特征在于：所述的取向硅钢渗氮装置用真空控制结构的导电密封辊(3)包括导电密封辊组件Ⅰ(7)和导电密封辊组件Ⅱ(8)，非接触密封辊(4)包括非接触密封辊组件Ⅰ(9)和非接触密封辊组件Ⅱ(10)。
3.根据权利要求1或2所述的取向硅钢渗氮装置用真空控制结构，其特征在于：所述的开口部(2)包括进口部(11)和出口部，进口部(11)内设置一组导电密封辊(3)和非接触密封辊(4)，出口部内设置另一组导电密封辊(3)和非接触密封辊(4)。
4.根据权利要求3所述的取向硅钢渗氮装置用真空控制结构，其特征在于：所述的取向硅钢渗氮装置包括清理与活化段、渗氮段、密封段，进口部(11)为清理与活化段，出口部为密封段。
5.根据权利要求2所述的取向硅钢渗氮装置用真空控制结构，其特征在于：所述的导电密封辊(3)的导电密封辊组件Ⅰ(7)上部靠近开口部(2)上部内壁，导电密封辊组件Ⅱ(8)下部靠近进口部(11)下部内壁，待处理取向硅钢(13)设置为能够从导电密封辊组件Ⅰ(7)下部和导电密封辊组件Ⅱ(8)上部之间的缝隙通过的结构。
6.根据权利要求2或5所述的取向硅钢渗氮装置用真空控制结构，其特征在于：所述的非接触密封辊(4)还包括偏心辊(14)，偏心辊(14)包括偏心辊组件Ⅰ(15)和偏心辊组件Ⅱ(16)，偏心辊组件Ⅰ(15)位于非接触密封辊组件Ⅰ(9)和开口部(2)上部内壁之间，偏心辊组件Ⅱ(16)位于非接触密封辊组件Ⅱ(10)和开口部(2)下部内壁之间。
7.根据权利要求6所述的取向硅钢渗氮装置用真空控制结构，其特征在于：所述的非接触密封辊组件Ⅰ(9)为中空结构，非接触密封辊组件Ⅰ(9)上靠近待处理取向硅钢(13)位置设置出气细缝或多个出气孔，非接触密封辊组件Ⅰ(9)与高压气体输送管连通。
8.根据权利要求7所述的取向硅钢渗氮装置用真空控制结构，其特征在于：所述的非接触密封辊组件Ⅱ(10)为中空结构，非接触密封辊组件Ⅱ(10)上靠近待处理取向硅钢(13)位置设置出气细缝或多个出气孔，非接触密封辊组件Ⅱ(10)与高压气体输送管连通。
9.根据权利要求6所述的取向硅钢渗氮装置用真空控制结构，其特征在于：非接触密封辊组件Ⅰ(9)下部和非接触密封辊组件Ⅱ(10)上部之间的缝隙设置为能够通过待处理取向硅钢(13)的结构。
10.根据权利要求7所述的取向硅钢渗氮装置用真空控制结构，其特征在于：所述的高压气体输送管输送的气体为氮气或氢气或氨气。
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