[实用新型]管用进气排气装置

说明书

本实用新型涉及一种管用进气排气装置，包括进气管和排气管，所述进气管和排气管分布在炉管内并紧靠炉内壁，所述进气管和排气管以布置在炉管内部的硅片为中心对称分布；所述进气管和排气管均为结构相同的多层套管结构，所述多层套管结构由至少两根气管由内向外同轴心套接构成；在每层气管上开设若干气孔。本实用新型进气管和排气管采用多层套管结构，多层套管结构的内部空间使扩散源气体和反应残留废气可在多层套管结构中充分混合均匀后进入或排出炉管。另一方面各层气管中气孔的位置、角度、孔径、孔距、孔向均调整，从而实现进入炉管的气流方向稳定性和均匀性。

技术领域

本实用新型涉及技术太阳能电池技术领域，特别是涉及适用于高温扩散管的管用进气排气装置。

背景技术

目前，PERC+SE技术是最为成熟高效电池技术路线之一，并且已经实现大规模量产，其中扩散是激光选择性发射极(selectiveemitter SE)技术的核心工序之一。激光SE技术，利用硅片表面沉积磷硅玻璃或硼硅玻璃中掺杂源，在激光热效应作用下，实现掺杂源再分布。当前，晶硅电池扩散均采用管式扩散方式，其扩散均匀性通过调整工艺时间、气体流量和温度三个因素调整，同时与炉管进气、排气方式、位置也有很大关系。

传统的高温扩散管，单纯采用炉口进气炉尾抽气、炉尾进气炉口抽气或者喷淋方式进气炉中抽气等方式，其进气排气管均为单层管，此类设计，进气或者排气气流方向均垂直于硅片在炉管中放置，在扩散工艺过程中炉内会产生横向气流，上述横向气流造成炉管内不同空间位置掺杂气体气流速度不稳定，产生气流扰动。在此情况下，硅片表面掺杂气体反应分布不均匀，对整个炉管片内和片间方阻均匀性产生不利影响，同时也会影响硅片表面磷硅玻璃或硼硅玻璃厚度和掺杂源浓度的分布均匀性，进而影响下一步激光SE后方阻。

此外传统高温扩散管还存在其他问题，其表现为(1)仅单纯关注进气管，而排气管依然单层管的方式，但这种方式也会造成横向气流扰动；(2)上述单层进气管对掺杂气体无法混合均匀，影响扩散气体均匀分布；(3)进气管开孔不规则导致进气管、排气管不通用，造成成本增加。

实用新型内容

针对上述现有技术的缺点，本实用新型的目的是提供一种能保证扩散气体在炉管内均匀和稳定分布的管用进气排气装置。

为实现上述目的，本实用新型的技术方案如下：

管用进气排气装置，包括进气管和排气管，所述进气管和排气管分布在炉管内并紧靠炉内壁，所述进气管和排气管以布置在炉管内部的硅片为中心对称分布；所述进气管和排气管均为结构相同的多层套管结构，所述多层套管结构由至少两根气管由内向外同轴心套接构成；在每层气管上开设若干气孔。

优选的，每层气管上的若干气孔均沿气管轴向或周向并排布置成一排或一排以上。

优选的，相邻层间气管上的若干气孔互为错位布置。

优选的，在多层套管结构中相邻气管的气孔孔径自内层向外层呈逐渐递减。

优选的，在多层套管结构中每层气管上各相邻气孔的孔间距自内层向外层呈逐渐递减。

优选的，在多层套管结构中相邻气管中气孔的开孔位置互为相反。

优选的，在多层套管结构位于最外层气管上的若干气孔在周向面沿轴向并排布置成1～3排。

优选的，若最外层气管上气孔沿周向并排布置成3排，在左右最外侧两排气孔中，位于左右相邻的两个气孔的中心相交线之间形成夹角ɑ，所述夹角ɑ为50°～100°。

本实用新型的有益效果如下：

与现有技术相比，本实用新型重新设计了进气管和排气管，进气管和排气管采用多层套管结构，多层套管结构的内部空间使扩散源气体和反应残留废气可在多层套管结构中充分混合均匀后进入或排出炉管。