[实用新型]耐用型高顺滑耐高透光导电膜

权利要求书

1.一种耐用型高顺滑耐高透光导电膜，其特征在于：包括透明基层、光学胶层、导电层和顺滑层，所述透明基层具有相对设置的第一表面和第二表面，所述光学胶层设置于所述透明基层的第一表面，所述导电层设置于所述光学胶层的表面，所述顺滑层设置于所述透明基层的第二表面，且所述顺滑层以纳米二氧化硅为原材料并采用喷涂工艺形成于所述透明基层的第二表面，所述纳米二氧化硅的直径为0.02μm～0.04μm。

2.根据权利要求1所述的耐用型高顺滑耐高透光导电膜，其特征在于：所述顺滑层的厚度小于2nm。

3.根据权利要求1所述的耐用型高顺滑耐高透光导电膜，其特征在于：所述导电层通过UV光胶贴合于所述光学胶层的表面上，所述UV光胶上形成若干凹槽，各所述凹槽上填充有形成所述导电层的导电材料。

4.根据权利要求3所述的耐用型高顺滑耐高透光导电膜，其特征在于：所述导电材料为银、铜或石墨烯。

5.根据权利要求3所述的耐用型高顺滑耐高透光导电膜，其特征在于：所述凹槽的宽度在0.8μm～1μm范围内，所述凹槽的深度在1μm～2μm范围内。

6.根据权利要求1～5任一项所述的耐用型高顺滑耐高透光导电膜，其特征在于：所述透明基层采用PET材料制成。

7.根据权利要求1～5任一项所述的耐用型高顺滑耐高透光导电膜，其特征在于：所述光学胶层采用OCA光学胶材料制成。

8.根据权利要求1～5任一项所述的耐用型高顺滑耐高透光导电膜，其特征在于：所述光学胶层的厚度在80μm～100μm范围内，所述光学胶层的透光率大于96％。