[实用新型]耐用型高顺滑耐高透光导电膜

说明书

本实用新型属于导电膜技术领域，尤其涉及一种耐用型高顺滑耐高透光导电膜，包括透明基层、光学胶层、导电层和顺滑层，透明基层具有相对设置的第一表面和第二表面，光学胶层设置于透明基层的第一表面，导电层设置于光学胶层的表面，顺滑层设置于透明基层的第二表面，且顺滑层以纳米二氧化硅为原材料并采用喷涂工艺形成于透明基层的第二表面，纳米二氧化硅的直径为0.02μm～0.04μm。本实用新型中，选用的纳米二氧化硅的直径限定在0.02μm～0.04μm之间，这样可以确保形成的顺滑层即使被手指长期接触，也不会因为被磨损坏而影响其正常的顺滑性能；同时，还可以避免对透明基层和光学胶层的透光率造成影响，进而使得导电膜保持其原有的高透光性能。

技术领域

本实用新型属于导电膜技术领域，尤其涉及一种耐用型高顺滑耐高透光导电膜。

背景技术

现有的引用于电子设备上的导电膜，为了提高其顺滑性能，一般会在膜的表面设置一层顺滑层，通过该顺滑层改善导电膜的触摸效果，进而使得触感更加顺畅、顺滑。然而，增加的该顺滑层却会存在另外一个问题，即随着对导电膜的使用时间的延长，手指长期接触顺滑层的表面，造成顺滑层被磨损，导电膜的顺滑效果降低，甚至不再具备顺滑效果，如此又导致导电膜触摸使用时存在顿挫之感，影响使用时的触摸效果；另外，增加的顺滑层，会在一定程度上影响导电膜的透光性，造成其透光效果降低，影响使用时的视觉效果。

前面的叙述在于提供一般的背景信息，并不一定构成现有技术。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种耐用型高顺滑耐高透光导电膜，旨在解决现有技术中的导电膜无法兼顾高顺滑和高透光性能的技术问题。

为实现上述目的，本实用新型实施例提供的一种耐用型高顺滑耐高透光导电膜，包括透明基层、光学胶层、导电层和顺滑层，所述透明基层具有相对设置的第一表面和第二表面，所述光学胶层设置于所述透明基层的第一表面，所述导电层设置于所述光学胶层的表面，所述顺滑层设置于所述透明基层的第二表面，且所述顺滑层以纳米二氧化硅为原材料并采用喷涂工艺形成于所述透明基层的第二表面，所述纳米二氧化硅的直径为0.02μm～0.04μm。

可选地，所述顺滑层的厚度小于2nm。

可选地，所述导电层通过UV光胶贴合于所述光学胶层的表面上，所述UV光胶上形成若干凹槽，各所述凹槽上填充有形成所述导电层的导电材料。

可选地，所述导电材料为银、铜或石墨烯。

可选地，所述凹槽的宽度在0.8μm～1μm范围内，所述凹槽的深度在1μm～2μm范围内。

可选地，所述透明基层采用PET材料制成。

可选地，所述光学胶层采用OCA(Optically Clear Adhesive)光学胶材料制成。

可选地，所述光学胶层的厚度在80μm～100μm范围内，所述光学胶层的透光率大于96％。

本实用新型实施例提供的耐用型高顺滑耐高透光导电膜中的上述一个或多个技术方案至少具有如下技术效果之一：本实用新型的耐用型高顺滑耐高透光导电膜中，其在透明基层的第二表面上设置顺滑层，以提高整个导电膜的顺滑性能，并且由于该顺滑层是以纳米二氧化硅为原材料，再通过喷涂工艺在透明基层上喷涂形成，同时，选用的纳米二氧化硅的直径限定在0.02μm～0.04μm之间，这样可以确保形成的顺滑层即使被手指长期接触，也不会因为被磨损坏而影响其正常的顺滑性能；同时，纳米二氧化硅的直径限定在0.02μm～0.04μm之间还可以避免对透明基层和光学胶层的透光率造成影响，进而使得导电膜保持其原有的高透光性能。

附图说明