[实用新型]一种萃取电积生产工艺用反应釜

权利要求书

1.一种萃取电积生产工艺用反应釜，其特征在于，包括反应釜本体(1)、固定杆(2)、动力电机(3)、温度计(4)、进料阀(5)、固定腿(6)、左侧保温层(7)、右侧保温层(8)、萃取剂进口(9)、离心杆(10)、旋流板(11)、萃取剂出液口(12)、萃取出料口(13)、反萃室(14)、反萃剂进口(15)、萃取剂排放口(16)、沉淀装置(17)、反萃剂出液口(18)、反萃剂排放口(19)、出料阀(20)、弹簧(21)、漏网盘(22)、连接杆(23)和升降块(24)；

所述固定杆(2)设于反应釜本体(1)顶部，所述动力电机(3)设于固定杆(2)顶部，所述温度计(4)设于动力电机(3)左侧，所述进料阀(5)设于动力电机(3)右侧，所述固定腿(6)设于反应釜本体(1)底部，所述左侧保温层(7)设于反应釜本体(1)左侧外壁，所述右侧保温层(8)设于反应釜本体(1)右侧外壁，所述萃取剂进口(9)设于左侧保温层(7)顶部，所述离心杆(10)设于动力电机(3)底部，所述旋流板(11)设于离心杆(10)外壁，所述萃取剂出液口(12)设于反应釜本体(1)左侧外壁，所述反萃室(14)设于反应釜本体(1)内部，所述萃取出料口(13)设于反萃室(14)顶部，所述反萃剂进口(15)设于反萃室(14)右侧，所述萃取剂排放口(16)设于左侧保温层(7)底部，所述沉淀装置(17)设于反萃室(14)底部，所述反萃剂出液口(18)设于沉淀装置(17)底部，所述反萃剂排放口(19)设于右侧保温层(8)底部，所述出料阀(20)设于沉淀装置(17)底部，所述弹簧(21)设于沉淀装置(17)内部，所述漏网盘(22)设于弹簧(21)底部，所述连接杆(23)设于漏网盘(22)底部，所述升降块(24)设于连接杆(23)两侧。

2.根据权利要求1所述的一种萃取电积生产工艺用反应釜，其特征在于，所述反应釜本体(1)外壁开设有与温度计(4)相配式的轨道。

3.根据权利要求1所述的一种萃取电积生产工艺用反应釜，其特征在于，所述固定杆(2)和动力电机(3)外壁均设有外螺纹，且通过螺纹连接有螺母。

4.根据权利要求1所述的一种萃取电积生产工艺用反应釜，其特征在于，所述沉淀装置(17)内部开设有与升降块(24)相配式的轨道。

5.根据权利要求1所述的一种萃取电积生产工艺用反应釜，其特征在于，所述左侧保温层(7)底部开设有与萃取剂排放口(16)相配式的轨道。

6.根据权利要求1所述的一种萃取电积生产工艺用反应釜，其特征在于，所述右侧保温层(8)底部开设有与反萃剂排放口(19)相配式的轨道。