[实用新型]用于X射线荧光光谱测定杂质元素的熔融制样装置

权利要求书

1.一种用于X射线荧光光谱测定杂质元素的熔融制样装置，包括XRF高频熔样炉（1），所述XRF高频熔样炉（1）设置有熔融区（11），所述熔融区（11）内设置有多个呈矩形排列的熔融炉（111），其特征在于：所述熔融区（11）内设置有隔热机构，所述隔热机构包括隔热板（3），所述隔热板（3）沿XRF高频熔样炉（1）长度方向与一排熔融炉（111）位于同一竖平面，所述隔热板（3）在竖直方向上横置于熔融炉（111）上侧，所述隔热板（3）的长度不低于一排所述熔融炉（111）的长度；所述隔热板（3）背离显示屏（12）的一端侧设置有两根滑动杆（4），两根所述滑动杆（4）均布于隔热板（3）宽度方向的两端，两根所述滑动杆（4）一端固定于隔热板（3），两根所述滑动杆（4）另一端贯穿并滑动连接于XRF高频熔样炉（1）的箱壁（14），所述箱壁（14）与熔融炉（111）的距离不低于隔热板（3）的长度，所述滑动杆（4）远离XRF高频熔样炉（1）的一端设置有推拉杆（5），所述推拉杆（5）的两端分别固定于两根滑动杆（4）。

2.根据权利要求1所述的熔融制样装置，其特征在于：两根所述滑动杆（4）为中空结构，所述隔热板（3）内设置有水道（31），所述水道（31）连通两根所述滑动杆（4），其中一根所述滑动杆（4）连通水源。

3.根据权利要求2所述的熔融制样装置，其特征在于：所述隔热板（3）沿其厚度方向靠近熔融炉（111）的一侧固定有隔热层（32）。

4.根据权利要求1所述的熔融制样装置，其特征在于：所述箱壁（14）开设有滑移孔（141），所述滑移孔（141）沿XRF高频熔样炉（1）的宽度方向延伸，所述滑移孔（141）在竖直方向上的两孔壁均内凹形成有滑移槽（142），所述滑移孔（141）内设置有两端分别滑移连接于两个所述滑移槽（142）的滑移板（143），两根所述滑动杆（4）滑动连接于滑移板（143）。

5.根据权利要求4所述的熔融制样装置，其特征在于：所述滑移板（143）开设有转动孔（144），所述滑移板（143）上多个轴线与其长度方向平行的销孔一（1431），所述转动孔（144）内凹成型有转动槽（145），所述转动槽（145）的纵剖面呈圆形，所述转动槽（145）内适配有转动盘（146），所述转动盘（146）上开设有多个与销孔一（1431）同轴的销孔二（1461），所述销孔一（1431）与销孔二（1461）内同时设置有销钉（147）。

6.根据权利要求5所述的熔融制样装置，其特征在于：所述滑移板（143）沿其滑移方向的两侧均设置有折叠板（6），所述折叠板（6）的两端分别固定于滑移板（143）和滑移孔（141）的孔壁。

7.根据权利要求1所述的熔融制样装置，其特征在于：所述推拉杆（5）远离箱壁（14）的一侧设置有呈T状的横截面呈圆形的螺杆（7），所述螺杆（7）沿滑动杆（4）的长度方向设置，所述推拉杆（5）内成型有梯形孔（51），所述螺杆（7）的大头端螺纹连接于梯形孔（51），所述螺杆（7）远离推拉杆（5）一端设置有电机（8），所述电机（8）的输出轴同轴连接于螺杆（7）；所述滑动杆（4）靠近地面的一侧横置有多根与其同向的滑轨（81），所述滑轨（81）径向截面呈H形，所述滑轨（81）的一端固定于转动盘（146），多根所述滑轨（81）同时滑动连接有滑座（82），所述电机（8）的底座固定于滑座（82）。

8.根据权利要求1所述的熔融制样装置，其特征在于：所述XRF高频熔样炉（1）竖向设置有排气管（9），所述排气管（9）连通熔融区（11）。