[实用新型]一种用于射频磁控溅射仪的升降装置

权利要求书

1.一种用于射频磁控溅射仪的升降装置，包括工作台(1)，所述工作台(1)上放置有溅射仪(2)，该溅射仪(2)设有真空室(3)，所述真空室(3)内设置有载物台(4)及靶头(5)，基片承载在所述载物台(4)上，其特征在于：所述载物台(4)旋转设置在所述真空室(3)内，且所述靶头(5)设置在所述载物台(4)上方；

所述工作台(1)上还固定有气动伸缩装置(6)，该气动伸缩装置(6)包括气动伸缩杆(601)，所述气动伸缩杆(601)顶部栓接有定位柱(602)，该定位柱(602)底部栓接有止挡块(603)，在所述止挡块(603)内部穿设定位轴(604)，且该定位轴(604)的顶部与所述定位柱(602)底部栓接，所述定位轴(604)的底部与所述靶头(5)栓接固定。

2.根据权利要求1所述的一种用于射频磁控溅射仪的升降装置，其特征在于：所述定位轴(604)底部栓接有滑动槽(7)，在滑动槽(7)内滑动连接有滑动块(8)，所述滑动块(8)与所述靶头(5)栓接固定。

3.根据权利要求1所述的一种用于射频磁控溅射仪的升降装置，其特征在于：所述载物台(4)中设有加热元件，且该加热元件真空密封在所述载物台(4)中。

4.根据权利要求1所述的一种用于射频磁控溅射仪的升降装置，其特征在于：所述真空室(3)的材质为石英玻璃，真空室(3)上开设有真空抽气孔，真空泵通过管路与真空抽气口相连接。

5.根据权利要求1所述的一种用于射频磁控溅射仪的升降装置，其特征在于：所述载物台(4)底部与所述真空室(3)底部之间转动设置有转动轴。