[实用新型]一种具有在线清洗功能的磁控溅射靶

说明书

本实用新型公开了一种具有在线清洗功能的磁控溅射靶，包括靶材本体、外冷却环本体、中心柱本体、中空槽和清洗结构，所述靶材本体的内部设置有中空槽，且中空槽内部的中心位置处设置有中心柱本体，中心柱本体的一端与靶材本体固定连接，并且中心柱本体的外壁上套装有中心环本体，中心环本体的内壁与中心柱本体的外壁固定连接，所述中心环本体外侧的中空槽内部安装有内冷却环本体，且内冷却环本体一侧的外壁上设置有内冷却槽，所述内冷却环本体外侧的靶材本体内壁上设置有清洗结构。本实用新型不仅避免了靶材表面中毒，提高了靶材的使用效率，而且延长了磁控溅射靶的使用寿命。

技术领域

本实用新型涉及物理气相沉积技术领域，具体为一种具有在线清洗功能的磁控溅射靶。

背景技术

磁控溅射是物理气相沉积的一种，一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，磁控溅射包括很多种类，各有不同工作原理和应用对象，但有一共同点：利用磁场与电场交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击氩气产生离子的概率，所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。

现今市场上的此类磁控溅射靶种类繁多，基本可以满足人们的使用需求，但是依然存在一定的不足之处，具体问题有以下几点：

(1)现有的此类磁控溅射靶在反应溅射镀膜的过程中，反应性气体在靶材表面逐渐生成化合物薄膜，改变靶材的正常工作状态，甚至容易引起靶材表面中毒；

(2)现有的此类磁控溅射靶在使用时通常只能使位于所述环形磁靶内的靶材得到利用，而其他的部位的靶材便被浪费，因而提高了生产成本；

(3)现有的此类磁控溅射靶在使用时靶材表面的温度通常较高，长期使用不利于磁控溅射靶的使用寿命。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种具有在线清洗功能的磁控溅射靶，以解决上述背景技术中提出磁控溅射靶在使用时容易引起靶材表面中毒，容易造成其他的部位靶材的浪费和靶材表面的温度通常较高的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种具有在线清洗功能的磁控溅射靶，包括靶材本体、外冷却环本体、中心柱本体、中空槽和清洗结构，所述靶材本体的内部设置有中空槽，且中空槽内部的中心位置处设置有中心柱本体，中心柱本体的一端与靶材本体固定连接，并且中心柱本体的外壁上套装有中心环本体，中心环本体的内壁与中心柱本体的外壁固定连接，所述中心环本体外侧的中空槽内部安装有内冷却环本体，且内冷却环本体一侧的外壁上设置有内冷却槽，所述内冷却环本体外侧的靶材本体内壁上设置有清洗结构。

优选的，所述内冷却环本体外侧的中空槽内部设置有外冷却环本体，且外冷却环本体的外壁与靶材本体的内壁紧密接触，并且外冷却环本体一侧的外壁上设置有外冷却槽，便于对靶材本体进行冷却。

优选的，所述内冷却环本体远离内冷却槽一侧的外壁上设置有固定架体，固定架体的一端与内冷却环本体固定连接，且固定架体的外壁上皆固定有等间距的第一磁铁块，便于提高靶材的利用率。

优选的，所述清洗结构的内部依次设置有环状屏蔽壁、清洗腔、输气管道、进气口和出气口，内冷却环本体外侧的中空槽内部固定有环状屏蔽壁，且环状屏蔽壁靠近靶材本体的一侧设置有清洗腔，便于完成在线清洗工作。

优选的，所述清洗腔远离环状屏蔽壁一侧的靶材本体内部皆固定有等间距的输气管道，且输气管道的一端设置有进气口，并且输气管道的另一端延伸至清洗腔的内部并设置有出气口，便于输入惰性气体。

优选的，所述第一磁铁块一侧的固定架体外壁上皆设置有第二磁铁块，第二磁铁块的一端与固定架体的外壁固定连接，且第二磁铁块的磁性与第一磁铁块的磁性相反，第二磁铁块与第一磁铁块相互配合，便于使靶材本体的原子被溅射出来飞向工件并沉积在工件上。