[实用新型]一种离化源靶块用水冷镀膜结构有效

专利信息
申请号: 202020351824.4 申请日: 2020-03-19
公开(公告)号: CN211843515U 公开(公告)日: 2020-11-03
发明(设计)人: 李石豹 申请(专利权)人: 遵化市洪晟霖翼钛金设备有限公司
主分类号: B32B17/06 分类号: B32B17/06;B32B7/12;B32B9/04;B32B9/00;B32B3/08;B32B3/28;B32B33/00
代理公司: 北京化育知识产权代理有限公司 11833 代理人: 尹均利
地址: 064200 河北*** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 一种 离化源靶块用 水冷 镀膜 结构
【权利要求书】:

1.一种离化源靶块用水冷镀膜结构,包括主膜体(1)、钢化耐磨层(2)、光源吸收层(3)、膜体隔离层(7)和中心膜片(9),其特征在于:所述主膜体(1)内部的中心位置处设有中心膜片(9),且中心膜片(9)一侧的主膜体(1)内部设有上膜体基层(10),并且上膜体基层(10)远离中心膜片(9)一侧的主膜体(1)内部设有光源吸收层(3),所述光源吸收层(3)的内部设有光变结构(5),且光源吸收层(3)远离上膜体基层(10)一侧的主膜体(1)内部设有钢化耐磨层(2),并且钢化耐磨层(2)的内部设有耐磨结构(4),所述中心膜片(9)远离上膜体基层(10)一侧的主膜体(1)内部设有下膜体基层(8),且下膜体基层(8)远离中心膜片(9)一侧的主膜体(1)内部设有膜体隔离层(7),并且膜体隔离层(7)的内部设有防护结构(6)。

2.根据权利要求1所述的一种离化源靶块用水冷镀膜结构,其特征在于:所述耐磨结构(4)的内部依次设有玻璃片体(401)、抗压波纹线体(402)、硅胶抗压片体(403)以及有机粘合剂(404),所述钢化耐磨层(2)内部的一侧设有硅胶抗压片体(403),且硅胶抗压片体(403)内部的中心位置处设有抗压波纹线体(402)。

3.根据权利要求2所述的一种离化源靶块用水冷镀膜结构,其特征在于:所述硅胶抗压片体(403)一侧的钢化耐磨层(2)内部填充有有机粘合剂(404),且有机粘合剂(404)远离硅胶抗压片体(403)一侧的钢化耐磨层(2)内部粘贴有玻璃片体(401)。

4.根据权利要求1所述的一种离化源靶块用水冷镀膜结构,其特征在于:所述光变结构(5)的内部依次设有T型定位件(501)、黑体吸光颗粒(502)以及反光膜片(503),所述光源吸收层(3)内部的中心位置处设有反光膜片(503),且反光膜片(503)的两外侧壁上皆固定有T型定位件(501),T型定位件(501)远离反光膜片(503)的一端与光源吸收层(3)的内壁固定连接,并且T型定位件(501)外侧的光源吸收层(3)内部填充有黑体吸光颗粒(502)。

5.根据权利要求1所述的一种离化源靶块用水冷镀膜结构,其特征在于:所述防护结构(6)的内部依次设有向炭素片体(601)、复合太阳膜片(602)以及无机粘合剂(603),所述膜体隔离层(7)内部的中心位置处填充有无机粘合剂(603),且无机粘合剂(603)一侧的膜体隔离层(7)内部粘贴有向炭素片体(601)。

6.根据权利要求5所述的一种离化源靶块用水冷镀膜结构,其特征在于:所述无机粘合剂(603)远离向炭素片体(601)一侧的膜体隔离层(7)内部粘贴有复合太阳膜片(602),且复合太阳膜片(602)的厚度与向炭素片体(601)的厚度相等。

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