[实用新型]一种离化源靶块用水冷镀膜结构有效
申请号: | 202020351824.4 | 申请日: | 2020-03-19 |
公开(公告)号: | CN211843515U | 公开(公告)日: | 2020-11-03 |
发明(设计)人: | 李石豹 | 申请(专利权)人: | 遵化市洪晟霖翼钛金设备有限公司 |
主分类号: | B32B17/06 | 分类号: | B32B17/06;B32B7/12;B32B9/04;B32B9/00;B32B3/08;B32B3/28;B32B33/00 |
代理公司: | 北京化育知识产权代理有限公司 11833 | 代理人: | 尹均利 |
地址: | 064200 河北*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 离化源靶块用 水冷 镀膜 结构 | ||
本实用新型公开了一种离化源靶块用水冷镀膜结构,包括主膜体、钢化耐磨层、光源吸收层、膜体隔离层和中心膜片,所述主膜体内部的中心位置处设有中心膜片,且中心膜片一侧的主膜体内部设有上膜体基层,并且上膜体基层远离中心膜片一侧的主膜体内部设有光源吸收层,所述光源吸收层的内部设有光变结构,且光源吸收层远离上膜体基层一侧的主膜体内部设有钢化耐磨层,并且钢化耐磨层的内部设有耐磨结构,中心膜片远离上膜体基层一侧的主膜体内部设有下膜体基层。本实用新型不仅确保了镀膜结构使用时离化源靶块的完整性,避免了镀膜结构使用时对观测者出现干扰的现象,而且延长了镀膜结构的使用寿命。
技术领域
本实用新型涉及水冷镀膜技术领域,具体为一种离化源靶块用水冷镀膜结构。
背景技术
水冷镀膜是指在水冷条件下将相应镀膜材料镀至镀件表面的一种方法,而离化源靶块在生产加工过程中,为了对其表面进行防护,延长其使用寿命,则需对其表面进行镀膜处理,因此需使用到相应的镀膜结构。
目前市面上的镀膜结构多种多样,但功能性较为单一,还存在一定的问题,已逐渐无法满足人们的需求,具体问题有以下几点:
(1)现有的此类镀膜结构的耐磨性能一般,导致其易出现磨损的现象,难以确保离化源靶块的完整性;
(2)现有的此类镀膜结构不便于对光线进行吸收处理,导致离化源靶块在光线较亮处使用时易出现反光的现象,时常困扰着人们;
(3)现有的此类镀膜结构不便于隔热与抗氧化处理,导致其易受到外界高温与空气的侵蚀,使用寿命较短。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种离化源靶块用水冷镀膜结构,以解决上述背景技术中提出镀膜结构的耐磨性能一般、不便于对光线进行吸收处理以及不便于隔热与抗氧化处理的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种离化源靶块用水冷镀膜结构,包括主膜体、钢化耐磨层、光源吸收层、膜体隔离层和中心膜片,所述主膜体内部的中心位置处设有中心膜片,且中心膜片一侧的主膜体内部设有上膜体基层,并且上膜体基层远离中心膜片一侧的主膜体内部设有光源吸收层,所述光源吸收层的内部设有光变结构,且光源吸收层远离上膜体基层一侧的主膜体内部设有钢化耐磨层,并且钢化耐磨层的内部设有耐磨结构,所述中心膜片远离上膜体基层一侧的主膜体内部设有下膜体基层,且下膜体基层远离中心膜片一侧的主膜体内部设有膜体隔离层,并且膜体隔离层的内部设有防护结构。
优选的,所述耐磨结构的内部依次设有玻璃片体、抗压波纹线体、硅胶抗压片体以及有机粘合剂,所述钢化耐磨层内部的一侧设有硅胶抗压片体,且硅胶抗压片体内部的中心位置处设有抗压波纹线体,提高了镀膜结构的耐磨性能。
优选的,所述硅胶抗压片体一侧的钢化耐磨层内部填充有有机粘合剂,且有机粘合剂远离硅胶抗压片体一侧的钢化耐磨层内部粘贴有玻璃片体,进一步增强了镀膜结构的耐磨性能。
优选的,所述光变结构的内部依次设有T型定位件、黑体吸光颗粒以及反光膜片,所述光源吸收层内部的中心位置处设有反光膜片,且反光膜片的两外侧壁上皆固定有T型定位件,T型定位件远离反光膜片的一端与光源吸收层的内壁固定连接,并且T型定位件外侧的光源吸收层内部填充有黑体吸光颗粒,降低镀膜结构出现反光的现象。
优选的,所述防护结构的内部依次设有向炭素片体、复合太阳膜片以及无机粘合剂,所述膜体隔离层内部的中心位置处填充有无机粘合剂,且无机粘合剂一侧的膜体隔离层内部粘贴有向炭素片体,以便对光源进行吸收处理。
优选的,所述无机粘合剂远离向炭素片体一侧的膜体隔离层内部粘贴有复合太阳膜片,且复合太阳膜片的厚度与向炭素片体的厚度相等,降低镀膜结构出现反光的现象。
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