[实用新型]基于气体质量流量控制的二次动态配气装置及系统

权利要求书

1.一种基于气体质量流量控制的二次动态配气装置，其特征在于，包括：

稀释气体储气罐、被稀释气体储气罐、初级配气罐和二级配气罐，其中，

所述稀释气体储气罐的出气口通过第一输气管路连接所述初级配气罐的第一进气口，通过第二输气管路连接所述二级配气罐的第一进气口；

所述被稀释气体储气罐的出气口通过第三输气管路连接所述初级配气罐的第二进气口；

所述初级配气罐的第一出气口通过第四输气管路连接所述二级配气罐第二进气口；

所述初级配气罐内还设置有压力监测单元；

所述第一输气管路、所述第二输气管路、所述第三输气管路、所述第四输气管路上均设置有气体控制单元。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述初级配气罐的第二出气口通过第五输气管路连接所述二级配气罐的第三进气口，所述第五输气管路上设置有截止阀。

3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述初级配气罐的第三出气口还通过第六输气管路将气体排出，所述第六输气管路上设置有截止阀。

4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述二级配气罐的出气口还通过第七输气管路将气体排出，所述第七输气管路上设置有截止阀。

5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述气体控制单元包括截止阀和气体质量流量控制器。

6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述压力监测单元包括压力传感器和电控单元。

7.一种基于气体质量流量控制的二次动态配气系统，其特征在于，包括：上位机和如权利要求1-6任一项所述的基于气体质量流量控制的二次动态配气装置，所述上位机通过通讯线路与所述基于气体质量流量控制的二次动态配气装置相连接，以对所述基于气体质量流量控制的二次动态配气装置进行逻辑控制。

8.根据权利要求7所述的系统，其特征在于，还包括壳体，所述基于气体质量流量控制的二次动态配气装置设置在所述壳体内部。

9.根据权利要求7所述的系统，其特征在于，还包括：与所述上位机相连接的人机交互单元。

10.根据权利要求7所述的系统，其特征在于，所述上位机为PC或触摸屏。