[实用新型]基于气体质量流量控制的二次动态配气装置及系统

说明书

本实用新型涉及一种基于气体质量流量控制的二次动态配气装置及系统，应用于配气技术领域，其中，基于气体质量流量控制的二次动态配气装置包括：稀释气体储气罐、被稀释气体储气罐、初级配气罐和二级配气罐，其中，所述稀释气体储气罐的出气口通过第一输气管路连接所述初级配气罐的第一进气口，通过第二输气管路连接所述二级配气罐的第一进气口；所述被稀释气体储气罐的出气口通过第三输气管路连接所述初级配气罐的第二进气口；所述初级配气罐的第一出气口通过第四输气管路连接所述二级配气罐第二进气口；所述初级配气罐内还设置有压力监测单元；所述第一输气管路、所述第二输气管路、所述第三输气管路、所述第四输气管路上均设置有气体控制单元。

技术领域

本实用新型涉及配气技术领域，具体涉及基于气体质量流量控制的二次动态配气装置及系统。

背景技术

动态配气法是持续按一定流量比将已知组分的气体和稀释气混合，实现配置不同浓度气体要求，可在气体传感器测试时实现快速响应和恢复，获得精确的测量结果。而为了得到想要的浓度的气体，配气单元也逐渐兴起。

现有的配气单元中，往往采用气体流量控制器精密的控制气体流量，然后后端出气口位置将工艺气体与背景气体混合直接输出。但是，由于气体流量控制器具有一定的量程，根据满量程不同，其最低的可控制流量也随之变化，若需要较低的气体浓度，则选择较小量程的气体流量控制器，而工艺气体的输出也会减少，这就使得混合后气体的输出量很少，而若增大输出气体的流量，可能会使气体分析仪损坏；而若选择量程大的气体流量控制器，又不能降低配气输出的流量，并且不能配的低浓度的气体，从而，局限了配气装置的使用。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型为了在至少一定程度上克服相关技术中存在的问题，提供一种基于气体质量流量控制的二次动态配气装置及系统。

为解决上述技术问题，本实用新型采用如下技术方案：

第一方面，一种基于气体质量流量控制的二次动态配气装置，包括：

稀释气体储气罐、被稀释气体储气罐、初级配气罐和二级配气罐，其中，

所述稀释气体储气罐的出气口通过第一输气管路连接所述初级配气罐的第一进气口，通过第二输气管路连接所述二级配气罐的第一进气口；

所述被稀释气体储气罐的出气口通过第三输气管路连接所述初级配气罐的第二进气口；

所述初级配气罐的第一出气口通过第四输气管路连接所述二级配气罐第二进气口；

所述初级配气罐内还设置有压力监测单元；

所述第一输气管路、所述第二输气管路、所述第三输气管路、所述第四输气管路上均设置有气体控制单元。

可选的，所述初级配气罐的第二出气口通过第五输气管路连接所述二级配气罐的第三进气口，所述第五输气管路上设置有截止阀。

可选的，所述初级配气罐的第三出气口还通过第六输气管路将气体排出，所述第六输气管路上设置有截止阀。

可选的，所述二级配气罐的出气口还通过第七输气管路将气体排出，所述第七输气管路上设置有截止阀。

可选的，所述气体控制单元包括截止阀和气体质量流量控制器。

可选的，所述压力监测单元包括压力传感器和电控单元。

第二方面，一种基于气体质量流量控制的二次动态配气系统，包括：上位机和第一方面所述的基于气体质量流量控制的二次动态配气装置，所述上位机通过通讯线路与所述基于气体质量流量控制的二次动态配气装置相连接，以对所述基于气体质量流量控制的二次动态配气装置进行逻辑控制。

可选的，还包括壳体，所述基于气体质量流量控制的二次动态配气装置设置在所述壳体内部。