[实用新型]一种H面魔T波导功率合成器有效
申请号: | 202020356617.8 | 申请日: | 2020-03-18 |
公开(公告)号: | CN212136661U | 公开(公告)日: | 2020-12-11 |
发明(设计)人: | 黄勇强;吕涛 | 申请(专利权)人: | 绵阳天赫微波科技有限公司 |
主分类号: | H01P5/20 | 分类号: | H01P5/20 |
代理公司: | 成都睿道专利代理事务所(普通合伙) 51217 | 代理人: | 周自维 |
地址: | 621000 四川省绵阳市涪城区青*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 波导 功率 合成器 | ||
1.一种H面魔T波导功率合成器,包括阻抗变换结构(21),其特征在于,还包括合成器上腔(1)和合成器下腔(2),所述阻抗变换结构(21)配置于所述合成器下腔(2),所述合成器上腔(1)与所述合成器下腔(2)构成T型波导结构,所述T型波导结构配置有用于信号输入/输出的波导端口。
2.根据权利要求1所述的H面魔T波导功率合成器,其特征在于,所述阻抗变换结构(21)与合成器下腔(2)一体成型。
3.根据权利要求1所述的H面魔T波导功率合成器,其特征在于,所述阻抗变换结构(21)包括阶梯过渡结构和阻抗匹配圆轴,所述阻抗匹配圆轴配置于所述阶梯过渡结构的最高台阶,所述阻抗匹配圆轴与所述阶梯过渡结构一体成型。
4.根据权利要求3所述的H面魔T波导功率合成器,其特征在于,所述阶梯过渡结构配置为五阶阶梯过渡结构。
5.根据权利要求1所述的H面魔T波导功率合成器,其特征在于,所述波导端口包括第一波导端口(31)、第二波导端口(32)、第三波导端口(33)、第四波导端口(34),所述第一波导端口(31)、所述第二波导端口(32)及所述第三波导端口(33)依次配置于所述T型波导结构的各个端部,所述第四波导端口(34)配置于T型波导结构交叉点处。
6.根据权利要求5所述的H面魔T波导功率合成器,其特征在于,所述第四波导端口(34)正对阻抗匹配圆轴。
7.根据权利要求1所述的H面魔T波导功率合成器,其特征在于,所述合成器上腔(1)与所述合成器下腔(2)配置为金属材质腔体。
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