[实用新型]一种具有检测装置的磁控溅射靶

权利要求书

1.一种具有检测装置的磁控溅射靶，包括真空腔体(1)、靶材(2)、靶座(3)、连接座(4)和水冷背板(7)，其特征在于：所述真空腔体(1)底部的中心位置处安装有靶座(3)，且真空腔体(1)底部的两内侧壁上皆固定有连接座(4)，连接座(4)的一端与靶座(3)的外壁相触碰，并且连接座(4)下方的靶座(3)外壁上设有安装结构(8)，所述靶座(3)内部的顶端安装有靶材(2)，且靶材(2)下方的靶座(3)内部安装有水冷背板(7)，并且水冷背板(7)底端的两侧皆设有流通管槽(9)，流通管槽(9)的底端延伸至靶座(3)的外部，流通管槽(9)底端的中心位置处安装有塞头(14)，所述靶座(3)底端的中心位置处安装有警报器(6)，且警报器(6)底端的中心位置处通过支架安装有继电器(5)。

2.根据权利要求1所述的一种具有检测装置的磁控溅射靶，其特征在于：所述靶材(2)的底端设有安置沟槽(10)，且安置沟槽(10)的内部安装有绝缘导线(13)，绝缘导线(13)的两端延伸至靶座(3)的外部并与警报器(6)两侧的外壁相连接。

3.根据权利要求1所述的一种具有检测装置的磁控溅射靶，其特征在于：所述水冷背板(7)的顶部设有等间距的导热块(12)，导热块(12)的顶端延伸至水冷背板(7)的外部，且导热块(12)顶端的中心位置处涂抹有低熔点金属粉末(11)。

4.根据权利要求1所述的一种具有检测装置的磁控溅射靶，其特征在于：所述安装结构(8)的内部依次设有安置板(801)、锁紧螺栓(802)、螺旋槽(803)、定位槽(804)、条形限位槽(805)、推柄(806)以及定位孔(807)，所述连接座(4)下方的靶座(3)外壁上设有定位槽(804)，且定位槽(804)内部的一侧设有安置板(801)，安置板(801)的一端延伸至定位槽(804)的外部，并且安置板(801)远离定位槽(804)的一端设有定位孔(807)。

5.根据权利要求4所述的一种具有检测装置的磁控溅射靶，其特征在于：所述定位槽(804)底部的一侧设有条形限位槽(805)，条形限位槽(805)的底端延伸至靶座(3)的外部，且条形限位槽(805)上方的安置板(801)底端固定有推柄(806)，推柄(806)的底端贯穿条形限位槽(805)并延伸至靶座(3)的外部。

6.根据权利要求4所述的一种具有检测装置的磁控溅射靶，其特征在于：所述定位孔(807)上方的连接座(4)底部设有螺旋槽(803)，且定位孔(807)位置处的安置板(801)底端设有锁紧螺栓(802)，锁紧螺栓(802)的顶端贯穿定位孔(807)并与螺旋槽(803)螺纹连接。