[实用新型]一种具有检测装置的磁控溅射靶

说明书

本实用新型公开了一种具有检测装置的磁控溅射靶，包括真空腔体、靶材、靶座、连接座和水冷背板，所述真空腔体底部的中心位置处安装有靶座，且真空腔体底部的两内侧壁上皆固定有连接座，连接座的一端与靶座的外壁相触碰，并且连接座下方的靶座外壁上设有安装结构，所述靶座内部的顶端安装有靶材，且靶材下方的靶座内部安装有水冷背板，并且水冷背板底端的两侧皆设有流通管槽，流通管槽的底端延伸至靶座的外部，流通管槽底端的中心位置处安装有塞头，靶座底端的中心位置处安装有警报器。本实用新型不仅提高了磁控溅射靶使用时的精准性，延长了磁控溅射靶的使用寿命，而且提高了磁控溅射靶使用时的便捷性。

技术领域

本实用新型涉及磁控溅射靶技术领域，具体为一种具有检测装置的磁控溅射靶。

背景技术

磁控溅射镀膜是在磁场和电场的交互作用下，使氩离子将靶材成分溅射沉积到基片上，由于靶材磁场水平磁力线分布成跑道形状，跑道处最能有效地束缚电子而产生放电，并导致其正下方的靶材被快速刻蚀，因而磁控溅射靶被广泛应用于镀膜器械中。

目前市面上的磁控溅射靶多种多样，但功能性较为单一，还存在一定的问题，已逐渐无法满足人们的需求，具体问题有以下几点：

(1)现有的此类磁控溅射靶不便于对靶材自动进行检测处理，需由人工进行定时与主观判断，因而导致其存有一定的误差；

(2)现有的此类磁控溅射靶的降温性能一般，导致靶材易因高温而出现损坏的现象，时常困扰着人们；

(3)现有的此类磁控溅射靶不便于快速进行安装处理，导致其使用时有所不便，还需加以改善。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种具有检测装置的磁控溅射靶，以解决上述背景技术中提出磁控溅射靶不便于对靶材自动进行检测处理、降温性能一般以及不便于快速进行安装处理的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种具有检测装置的磁控溅射靶，包括真空腔体、靶材、靶座、连接座和水冷背板，所述真空腔体底部的中心位置处安装有靶座，且真空腔体底部的两内侧壁上皆固定有连接座，连接座的一端与靶座的外壁相触碰，并且连接座下方的靶座外壁上设有安装结构，所述靶座内部的顶端安装有靶材，且靶材下方的靶座内部安装有水冷背板，并且水冷背板底端的两侧皆设有流通管槽，流通管槽的底端延伸至靶座的外部，流通管槽底端的中心位置处安装有塞头，所述靶座底端的中心位置处安装有警报器，且警报器底端的中心位置处通过支架安装有继电器。

优选的，所述靶材的底端设有安置沟槽，且安置沟槽的内部安装有绝缘导线，绝缘导线的两端延伸至靶座的外部并与警报器两侧的外壁相连接，以便检测靶材的厚度。

优选的，所述水冷背板的顶部设有等间距的导热块，导热块的顶端延伸至水冷背板的外部，且导热块顶端的中心位置处涂抹有低熔点金属粉末，提高对靶材的降温效果。

优选的，所述安装结构的内部依次设有安置板、锁紧螺栓、螺旋槽、定位槽、条形限位槽、推柄以及定位孔，所述连接座下方的靶座外壁上设有定位槽，且定位槽内部的一侧设有安置板，安置板的一端延伸至定位槽的外部，并且安置板远离定位槽的一端设有定位孔，以便对安置板进行收放安置处理。

优选的，所述定位槽底部的一侧设有条形限位槽，条形限位槽的底端延伸至靶座的外部，且条形限位槽上方的安置板底端固定有推柄，推柄的底端贯穿条形限位槽并延伸至靶座的外部，以便对安置板的移动幅度进行限位。

优选的，所述定位孔上方的连接座底部设有螺旋槽，且定位孔位置处的安置板底端设有锁紧螺栓，锁紧螺栓的顶端贯穿定位孔并与螺旋槽螺纹连接，以便对安置板进行定位处理。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该具有检测装置的磁控溅射靶不仅提高了磁控溅射靶使用时的精准性，延长了磁控溅射靶的使用寿命，而且提高了磁控溅射靶使用时的便捷性；