[实用新型]一种基于沙姆定律的平面足迹倾斜拍摄系统有效

专利信息
申请号: 202020403180.9 申请日: 2020-03-26
公开(公告)号: CN211744567U 公开(公告)日: 2020-10-23
发明(设计)人: 丁茂峦;彭湘洲;张哲;张大勇;陈家卫;胡书良 申请(专利权)人: 北京远心科技有限责任公司
主分类号: H04N5/225 分类号: H04N5/225;G01B11/00
代理公司: 北京八月瓜知识产权代理有限公司 11543 代理人: 李斌
地址: 100070 北京市丰*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 定律 平面 足迹 倾斜 拍摄 系统
【权利要求书】:

1.一种基于沙姆定律的平面足迹倾斜拍摄系统,其特征在于,包括外壳、镜头、摄像头、反射镜及照明装置,所述外壳无底面,所述照明装置与所述外壳相连接,用于为所述拍摄系统提供照明光源,所述镜头、摄像头及反射镜均位于所述外壳内部同一侧区域,所述镜头、摄像头及反射镜与足迹平面所成角度均可调节,所述外壳罩于足迹平面上方,所述镜头及摄像头位于足迹的斜上方,足迹平面可经所述反射镜进行光线反射并通过所述镜头在所述摄像头的感光面上成像。

2.根据权利要求1所述的一种基于沙姆定律的平面足迹倾斜拍摄系统,其特征在于,所述照明装置包括照明光源及连接摆臂,所述连接摆臂一端与所述照明光源固定连接,另一端固定在所述外壳的外侧面上。

3.根据权利要求2所述的一种基于沙姆定律的平面足迹倾斜拍摄系统,其特征在于,所述连接摆臂为柔性摆臂,通过调节所述连接摆臂,可以调节所述照明光源的位置。

4.根据权利要求2所述的一种基于沙姆定律的平面足迹倾斜拍摄系统,其特征在于,所述外壳侧面底部设有至少一开口,所述照明装置位于所述外壳外部,所述照明光源发出的光线从所述开口进入所述外壳内部将足迹照亮。

5.根据权利要求1所述的一种基于沙姆定律的平面足迹倾斜拍摄系统,其特征在于,所述摄像头的成像面顶部到其底部的高度至少为7.31mm。

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