[实用新型]一种基于沙姆定律的平面足迹倾斜拍摄系统

说明书

本实用新型提供了一种基于沙姆定律的平面足迹倾斜拍摄系统，包括外壳、镜头、摄像头、反射镜及照明装置，所述外壳无底面，所述照明装置与所述外壳相连接，用于为所述拍摄系统提供照明光源，所述镜头、摄像头及反射镜均位于所述外壳内部同一侧区域，拍摄时，所述外壳罩于足迹平面上方，使所述镜头及摄像头位于足迹的斜上方，足迹平面经反光镜进行光线反射并通过所述镜头在所述摄像头的感光面上成像，通过调节所述镜头及所述摄像头的角度，使所述足迹平面在所述反射镜中所成像平面、所述镜头表面及所述摄像头的感光面三者分别所在的平面相交于同一直线。本实用新型利用沙姆定律，以特定焦距角度位置进行拍摄，可得到全面清晰的足迹图像。

技术领域

本实用新型涉及图像采集装置技术领域，尤其是涉及一种基于沙姆定律的平面足迹倾斜拍摄系统。

背景技术

足迹图像提取是刑事案件现场勘查中的一项常规操作，目前的手段主要是以相机或手机直接拍照为主。很多时候现场勘查人员由于追求更好的成像角度，或因时间仓促来不及调整，从而未能规范地从现场足迹的正上方进行拍摄，很容易导致拍摄的图片发生倾斜变形。从现勘平面足迹成像的实践中可知，地面灰尘痕迹由于地板花纹的影响，很多时候拍摄的足迹都被前者的信息淹没了，难以辨识。

如果使相机偏离地面正上方位置，倾斜到比较低的一定角度进行拍摄的话，地面背景图案强度会明显变弱，从而使得灰尘散射的足迹信息相对增强，从而能明显提升信噪比。但是普通相机系统在这种情况下只能对地面拍摄区域的一小块局部区域清晰成像，对于倾斜远端和近端的区域由于景深限制都会变得模糊。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种基于沙姆定律的平面足迹倾斜拍摄系统，旨在解决上述背景技术中提出的问题。

本实用新型提供一种基于沙姆定律的平面足迹倾斜拍摄系统，包括外壳、镜头、摄像头、反射镜及照明装置，所述外壳无底面，所述照明装置与所述外壳相连接，用于为所述拍摄系统提供照明光源，所述镜头、摄像头及反射镜均位于所述外壳内部同一侧区域，所述镜头、摄像头及反射镜与足迹平面所成角度均可调节，所述外壳罩于足迹平面上方，所述镜头及摄像头位于足迹的斜上方，足迹平面可经所述反射镜进行光线反射并通过所述镜头在所述摄像头的感光面上成像。

优选地，所述照明装置包括照明光源及连接摆臂，所述连接摆臂一端与所述照明光源固定连接，另一端固定在所述外壳外侧面上。

优选地，所述连接摆臂为柔性摆臂，通过调节所述连接摆臂，可以调节所述照明光源的位置。

优选地，所述外壳侧面底部设有至少一开口，所述照明装置位于所述外壳外部，所述照明光源发出的光线从所述开口进入所述外壳内部将足迹照亮。

优选地，所述摄像头的成像面顶部到其底部的高度至少为7.31mm。

本实用新型具有的有益效果：本实用新型针对拍摄足迹的特定需求，可以调节设置足迹区域以及镜头面、摄像头感光面的位置和倾角，同时利用反射镜将足迹区域反射，使足迹区域关于反射镜对称面、镜头面及摄像机感光面相交于同一直线，满足沙姆定律的位置关系，成为一个定焦距定角度定位置的固定结构的足迹拍摄装置，同时将足迹罩于封闭壳体内，结构紧凑，并设置倾斜入射光源将足迹照亮，上述条件相结合，可以一次拍摄获得全面清晰高对比的足迹图像。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型拍摄系统整体结构的正视示意图；

图2为本实用新型实施例一足迹平面的反射镜像与镜头及摄像头位置关系光学原理示意图；

附图标记说明：