[实用新型]阵列基板及液晶显示面板

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：衬底基板、设置在所述衬底基板上的像素区以及位于像素区内的薄膜晶体管；

所述薄膜晶体管包括依次设置在所述衬底基板上的栅极、栅极绝缘层、半导体层、源漏金属层、彩色滤光片色阻层、保护层和像素电极，所述源漏金属层包括源极和漏极，所述源极和所述漏极之间具有沟道区域；

交叉设置的扫描线和数据线围设成所述像素区，所述像素电极覆盖在所述像素区的表面，所述数据线和所述衬底基板之间设置有所述栅极绝缘层，所述数据线的上方覆盖有所述彩色滤光片色阻层和所述保护层。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述源漏金属层和所述数据线均包括铜阻挡层和覆盖在所述铜阻挡层上的金属铜层。

3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述源漏金属层还包括覆盖在所述金属铜层上方的铜保护层。

4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述铜阻挡层和所述铜保护层均包括铬、钨、钽、钼或钛。

5.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述铜阻挡层的厚度为所述金属铜层的1/20-1/10。

6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述栅极包括附着层和覆盖在所述附着层上的金属铜层。

7.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述半导体层包括第一金属氧化物半导体层和覆盖在所述第一金属氧化物半导体层上方的第二金属氧化物半导体层，所述第一金属氧化物半导体层的导电率低于所述第二金属氧化物半导体层的导电率。

8.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述保护层包括硅的氧化物、氮化物或氮氧化物。

9.根据权利要求8所述的阵列基板，其特征在于，位于所述漏极上方的所述保护层和所述彩色滤光片色阻层上开设有导电过孔，所述导电过孔用于连通所述像素电极和所述漏极。

10.一种液晶显示面板，其特征在于，包括如权利要求1-9任一项所述的阵列基板、与所述阵列基板相对设置的彩膜基板以及夹持在所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶分子层。