[实用新型]多个方片式衬底用工艺夹具有效
申请号: | 202020461557.6 | 申请日: | 2020-04-01 |
公开(公告)号: | CN211867583U | 公开(公告)日: | 2020-11-06 |
发明(设计)人: | 李瑾;冒薇;王丰梅 | 申请(专利权)人: | 苏州研材微纳科技有限公司 |
主分类号: | B25B11/00 | 分类号: | B25B11/00;G03F7/30 |
代理公司: | 苏州国诚专利代理有限公司 32293 | 代理人: | 韩凤 |
地址: | 215000 江苏省苏州市工业园区*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多个方片式 衬底 用工 夹具 | ||
本实用新型涉及一种工艺夹具,尤其是一种多个方片式衬底用工艺夹具,属于衬底加工的技术领域。按照本实用新型提供的技术方案,所述多个方片式衬底用工艺夹具,包括能同时收纳多个方片衬底的衬底托盘以及与所述衬底托盘固定连接的托盘手柄;所述衬底托盘包括两个对应分布的放片托,在每个放片托对应相邻的内侧均设置能与方片衬底适配的放片槽;通过两个放片托上相对应的放片槽形成能满足方片衬底竖向放置的衬底竖向嵌置槽,两个放片托间形成能收纳竖向放置的方片衬底端角的端角收纳腔。本实用新型结构紧凑,能同时满足多个衬底的手工处理需求,提高对多个衬底的手工处理便捷性,减少衬底在工艺中产生污染,提高对衬底处理中的可靠性。
技术领域
本实用新型涉及一种工艺夹具,尤其是一种多个方片式衬底用工艺夹具,属于衬底加工的技术领域。
背景技术
本技术领域人员周知,在半导体的加工中,需要对衬底进行所需工艺处理,对衬底进行处理的工艺可包括显影工艺、清洗工艺或腐蚀工艺。目前,存在对多个的衬底进行手工处理的工艺场景,而在对多个的衬底进行显影或腐蚀等工艺时,存在手工操作困难,无法有效达到工艺处理的目的,特别是无法有效提高多个方片衬底的处理效率;同时,在工艺过程中,还易衬底污染,进而导致工艺后的衬底无法使用。
发明内容
本实用新型的目的是克服现有技术中存在的不足,提供一种多个方片式衬底用工艺夹具,其结构紧凑,能同时满足多个衬底的手工处理需求,提高对多个衬底的手工处理便捷性,减少衬底在工艺中产生污染,提高对衬底处理中的可靠性。
按照本实用新型提供的技术方案,所述多个方片式衬底用工艺夹具,包括能同时收纳多个方片衬底的衬底托盘以及与所述衬底托盘固定连接的托盘手柄;所述衬底托盘包括两个对应分布的放片托,在每个放片托对应相邻的内侧均设置能与方片衬底适配的放片槽;通过两个放片托上相对应的放片槽形成能满足方片衬底竖向放置的衬底竖向嵌置槽,两个放片托间形成能收纳竖向放置的方片衬底端角的端角收纳腔。
所述衬底托盘还包括托体第一挡块以及托体第二挡块,所述托体第一挡块、托体第二挡块分别位于放片托的两端,且托体第一挡块、托体第二挡块分别与放片托相应的端部固定,托盘手柄与托体第二挡块固定连接。
所述托体第一挡块、托体第二挡块均通过连接螺丝与对应的放片托固定连接。
在所述放片托的端部均设置托体端槽以及与所述托体端槽连通的螺丝孔,将托体第一挡块、托体第二挡块与放片托固定的连接螺丝能穿入相应的螺丝孔内。
所述托盘手柄呈柱状,托盘手柄与放片托上端面所在的平面相互垂直。
所述衬底包括硅衬底或玻璃衬底。
放片托上的多个放片槽间相互平行,所述放片槽包括位于放片托上端面的端面槽体、呈倾斜分布的斜面槽体以及呈竖直分布的直槽体,所述直槽体通过斜面槽体与端面槽体相连通。
所述端面槽体、斜面槽体以及直槽体间具有相同的宽度;放片槽的宽度为1±0.03mm,相邻放片槽间的距离为4.5mm~5.5mm。
还包括能放置工艺溶液的玻璃杯,所述玻璃杯能允许衬底托盘嵌置,以使得竖直放置的方片衬底能浸没在玻璃杯内的工艺溶液中。
所述衬底托盘以及托盘手柄采用特氟龙制成。
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