[实用新型]一种高清晰度耐光性胶带基膜

权利要求书

1.一种高清晰度耐光性胶带基膜，其特征在于，包括基材层(1)、设置在所述基材层(1)一侧的防粘层(2)以及设置在所述基材层(1)和所述防粘层(2)之间的光稳定助剂层(3)，所述基材层(1)为聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜或聚酯薄膜，所述防粘层(2)为有机防粘连剂层，所述有机防粘连剂层为超细纳米有机球形粒子层，所述超细纳米有机球形粒子层为有机硅聚合物层和甲基丙烯酸酯层中一种或者二者的复合层，所述有机硅聚合物层为含有甲醇官能团的有机硅聚醚共聚物层，所述甲基丙烯酸酯层为甲基丙烯酸甲酯层、改性甲基丙烯酸树脂层、甲基丙烯酸正丁酯层或甲基丙烯酸异辛酯层，所述复合层为甲基丙烯酸酯改性有机硅聚合物的复合硅层，所述光稳定助剂层(3)为受阻胺光稳定剂层、二苯甲酮稳定剂层、水杨酸稳定剂层或氰基丙烯酸酯稳定剂层，所述防粘层(2)和光稳定助剂层(3)之间设有抗氧化剂层(4)，所述抗氧化剂层(4)为受阻酚抗氧化剂层、亚磷酸酯抗氧化剂层或硫代类抗氧化剂层。

2.根据权利要求1所述的一种高清晰度耐光性胶带基膜，其特征在于：所述基材层(1)的厚度为1-500微米。

3.根据权利要求2所述的一种高清晰度耐光性胶带基膜，其特征在于：所述光稳定助剂层(3)的厚度为0.1-10微米。

4.根据权利要求1所述的一种高清晰度耐光性胶带基膜，其特征在于：所述超细纳米有机球形粒子层中的粒子的直径为10-200纳米。

5.根据权利要求4所述的一种高清晰度耐光性胶带基膜，其特征在于：所述超细纳米有机球形粒子层的厚度为10-800纳米。

6.根据权利要求1所述的一种高清晰度耐光性胶带基膜，其特征在于：所述抗氧化剂层(4)的厚度为0.1-10微米。