[实用新型]一种高清晰度耐光性胶带基膜

说明书

本实用新型公开了一种高清晰度耐光性胶带基膜，属于胶带技术领域，包括基材层、防粘层以及光稳定助剂层，所述防粘层为有机防粘连剂层，所述有机防粘连剂层为超细纳米有机球形粒子层，所述超细纳米有机球形粒子层为有机硅聚合物层和甲基丙烯酸酯层中一种或者二者的复合层，所述复合层为甲基丙烯酸酯改性有机硅聚合物的复合硅层，所述防粘层和光稳定助剂层之间设有抗氧化剂层。本实用新型通过在胶带基膜的一侧设置超细纳米有机球形粒子组成的防粘连剂层，来解决薄膜表面突起的问题和光线散射问题，同时在基材层和防粘连剂层之间设置光稳定助剂层和抗氧化剂层，以达到使胶带高清晰度且耐光性的目的。

技术领域

本实用新型涉及一种胶带基膜，特别是涉及一种高清晰度耐光性胶带基膜，属于胶带技术领域。

背景技术

薄膜的生产中，根据薄膜的不同用途，通常需加入不同功能的添加剂，例如抗静电剂、爽滑剂、粘连剂、增挺剂、增白剂等，但无论生产哪种用途的薄膜，都必须加入防粘连剂，否则，会在薄膜产品生产过程中的收卷、分切其它工序及以后的包装使用中出现许多问题，甚至无法使用。尤其是现代塑料加工正朝着自动化、高速化和高品质化方向发展，加工速度越快，越易因摩擦而产生静电，薄膜之间越容易粘连，严重阻碍高速线生产。并且，薄膜的透明性越，加工成型温度越高，越容易粘连。因此，防粘连剂无论是在薄膜产品本身的制造过程和以后使用的自动化包装工序中，都起到异常重要的作用。从这个意义上，防粘连剂是薄膜生产中最重要的添加剂。

目前市场上的防粘连剂多采用无机类防粘连剂，应用在薄膜产品中的无机防粘连剂主要有硅藻土、滑石粉、碳酸钙、合成二氧化硅以及玻璃微珠等。不同的材料性能不同，并非所有的无机防粘连剂都可用于薄膜。无机防粘连剂会对薄膜光学性能影响较大，会影响雾度，，易划伤膜面，应用也受到限制。

因此需要一种添加了防粘连剂后还能保持高清晰度的耐光性胶带基膜。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是为了提供一种高清晰度耐光性胶带基膜，通过在胶带基膜的一侧设置超细纳米有机球形粒子组成的防粘连剂层，来解决薄膜表面突起的问题和光线散射问题，同时在基材层和防粘连剂层之间设置光稳定助剂层和抗氧化剂层，以达到使胶带高清晰度且耐光性的目的。

本实用新型的目的可以通过采用如下技术方案达到：

一种高清晰度耐光性胶带基膜，包括基材层、设置在所述基材层一侧的防粘层以及设置在所述基材层和所述防粘层之间的光稳定助剂层，所述基材层为聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜或聚酯薄膜，所述防粘层为有机防粘连剂层，所述有机防粘连剂层为超细纳米有机球形粒子层，所述超细纳米有机球形粒子层为有机硅聚合物层和甲基丙烯酸酯层中一种或者二者的复合层，所述有机硅聚合物层为含有甲醇官能团的有机硅聚醚共聚物层，所述甲基丙烯酸酯层为甲基丙烯酸甲酯层、改性甲基丙烯酸树脂层、甲基丙烯酸正丁酯层或甲基丙烯酸异辛酯层，所述复合层为甲基丙烯酸酯改性有机硅聚合物的复合硅层，所述光稳定助剂层为受阻胺光稳定剂层、二苯甲酮稳定剂层、水杨酸稳定剂层或氰基丙烯酸酯稳定剂层，所述防粘层和光稳定助剂层之间设有抗氧化剂层，所述抗氧化剂层为受阻酚抗氧化剂层、亚磷酸酯抗氧化剂层或硫代类抗氧化剂层。

在上述任一方案中优选的是，所述基材层的厚度为1-500微米。

在上述任一方案中优选的是，所述光稳定助剂层的厚度为0.1-10微米。

在上述任一方案中优选的是，所述超细纳米有机球形粒子层中的粒子的直径为10-200纳米。

在上述任一方案中优选的是，所述超细纳米有机球形粒子层的厚度为10-800纳米。

在上述任一方案中优选的是，所述抗氧化剂层的厚度为0.1-10微米。