[实用新型]一种硅湿法腐蚀槽大尺寸开口宽度的监控结构

权利要求书

1.一种硅湿法腐蚀槽大尺寸开口宽度的监控结构，包括：单晶硅寸底(1)以及若干个湿法腐蚀凹槽(2)，其特征在于，若干个所述湿法腐蚀凹槽(2)开设在单晶硅寸底(1)上，所述湿法腐蚀凹槽(2)顶面为矩形，湿法腐蚀凹槽(2)与湿法腐蚀凹槽(2)的错位距离设置为1um，2um，3um……,(n-1)um，错位间距为所要监控的湿法腐蚀凹槽(2)开口宽度的实际偏差。

2.根据权利要求1所述的一种硅湿法腐蚀槽大尺寸开口宽度的监控结构，其特征在于，所述单晶硅寸底(1)的腐蚀面为100晶面。

3.根据权利要求1所述的一种硅湿法腐蚀槽大尺寸开口宽度的监控结构，其特征在于，所述湿法腐蚀凹槽(2)数量为n个，n≥3。

4.根据权利要求1所述的一种硅湿法腐蚀槽大尺寸开口宽度的监控结构，其特征在于，n个所述湿法腐蚀凹槽(2)的错位间距分别为1um，2um，3um…(n-1)um。

5.根据权利要求1所述的一种硅湿法腐蚀槽大尺寸开口宽度的监控结构，其特征在于，n个所述湿法腐蚀凹槽(2)按照错位间距由小到大依次递增的顺序排列。

6.根据权利要求1所述的一种硅湿法腐蚀槽大尺寸开口宽度的监控结构，其特征在于，n个所述湿法腐蚀凹槽(2)相互紧密排列。