[实用新型]一种延长MOCVD设备反应室维护周期的组件有效
| 申请号： | 202020490677.9 | 申请日： | 2020-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN212247202U | 公开（公告）日： | 2020-12-29 |
| 发明（设计）人： | 万智;徐培强;林晓珊;张银桥;王向武 | 申请（专利权）人： | 南昌凯迅光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458;C30B25/12 |
| 代理公司： | 南昌大牛知识产权代理事务所(普通合伙) 36135 | 代理人： | 喻莎 |
| 地址： | 330100 江西省南昌市*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 延长 mocvd 设备 反应 维护 周期 组件 | ||
1.一种延长MOCVD设备反应室维护周期的组件，其特征在于：包括托盘(1)、星形盖板(2)、盖板(3)和压盘(4)，所述托盘(1)上表面设置有圆凸起(5)，所述星形盖板(2)下表面设置有圆凹槽(6)，所述圆凸起(5)间隙配合圆凹槽(6)，所述星形盖板(2)中间开设有第一圆孔(9)，所述第一圆孔(9)内上端设置有盖板(3)，所述盖板(3)与星形盖板(2)为一体化结构，盖板(3)中间开设有第二圆孔(7)，所述第一圆孔(9)内下端安装有压盘(4)，所述压盘(4)中间为圆形凸块(8)，所述圆形凸块(8)间隙配合第二圆孔(7)。
2.根据权利要求1所述的一种延长MOCVD设备反应室维护周期的组件，其特征在于：所述星形盖板(2)的直径为377.5mm～378.5mm，厚度为4.20mm～4.30mm，表层粗糙度为1.5μm～2.5μm，所述第一圆孔(9)的直径为289.7.0mm～290.7mm。
3.根据权利要求1所述的一种延长MOCVD设备反应室维护周期的组件，其特征在于：所述盖板(3)的直径为289.7mm～290.7mm，厚度为1.4mm～1.5mm，表层粗糙度为1.5μm～2.5μm，所述第二圆孔(7)的直径为189.7mm～190.7mm。
4.根据权利要求1所述的一种延长MOCVD设备反应室维护周期的组件，其特征在于：所述压盘(4)的直径为289.5mm～290.5mm，厚度为3.15mm～3.25mm，表层粗糙度为1.5μm～2.5μm，所述圆形凸块(8)的直径为188.7mm～189.7mm，厚度为1.4mm～1.5mm。
5.根据权利要求1所述的一种延长MOCVD设备反应室维护周期的组件，其特征在于：所述圆凹槽(6)的数量有三组，沿着第一圆孔(9)的周向均匀分布。
6.根据权利要求1所述的一种延长MOCVD设备反应室维护周期的组件，其特征在于：所述盖板(3)与星形盖板(2)的制成材料为石墨。
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C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
