[实用新型]一种电子级超纯氨水的吸收装置有效

专利信息
申请号: 202020504017.1 申请日: 2020-04-08
公开(公告)号: CN212222436U 公开(公告)日: 2020-12-25
发明(设计)人: 冯烈;许京伟;刘尚文;金波;张磊 申请(专利权)人: 浙江建业化工股份有限公司;浙江建业微电子材料有限公司
主分类号: C01C1/02 分类号: C01C1/02
代理公司: 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 代理人: 尉伟敏
地址: 311600 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 电子 级超纯 氨水 吸收 装置
【说明书】:

本实用新型涉及电子化学品生产设备领域,提供一种电子级超纯氨水的吸收装置,包括超纯氨气进气管、超纯水进水管、吸收塔、出料管,所述吸收塔为逆流操作的填料塔,包括位于上部的塔体与位于下部的塔釜,塔体内部包括从上至下依次设置的分布器、第一填料、第二填料,塔釜底部连接有一循环管且循环管的另一端与分布器上方的塔体侧壁相连,循环管从下端到上端依次设有隔膜泵、过滤单元、检测单元,检测单元与循环管上端之间的循环管上连接有出料管。该装置循环充分,循环效率高,降低了成本;且料液在循环时还通过设在循环管上的过滤单元,可以去除在吸收塔内或是循环过程中引入的杂质,提高了终产品的纯度。

技术领域

本实用新型涉及电子化学品生产设备领域,尤其是涉及一种电子级超纯氨水的吸收装置。

背景技术

近年来,全球信息产业飞速发展,据全球电子化学品消费量最新统计数据表明,亚太地区尤其是中国,已成为全球电子业及其化学品的主导市场,而信息产业所需的半导体产业的蓬勃发展也使得高纯电子化学品需求量急剧增长。而在纯净的半导体产品中掺入极微量的杂质元素,就会使产品的电阻率发生极大的变化,因此半导体行业对化学材料的纯净度要求极高。

电子级超纯氨水作为半导体行业常用的八大超纯化学材料之一,消耗量位居IC行业第三,在集成电路、LCD等制造行业中有着重要作用,芯片工艺中使用的超纯化学品的纯度和洁净度对集成电路(IC)的成品率、电性能及可靠性有着十分重要的影响。利用氨水的弱碱性,活化硅晶圆及微粒表面,可以去除其表面颗粒、部分金属不纯物。因此,超高纯氨水广泛应用于在芯片的清洗及蚀刻工艺。

电子级超纯氨水的制备有多种方法,但是一般都经过洗涤与吸收的过程,尤其是吸收过程作为电子级超纯氨水制备的最后一步,对于电子级超纯氨水的生产有着至关重要的作用。目前并无现有专利特别提及电子级超纯氨水的吸收装置,均只对整个生产装置做阐述,例如一种公开号为“CN208883498U”的一种氨水纯化生产设备,包括氨液罐,氨液罐通过氨液输送管道与过滤器连接,过滤器通过过滤管道与精馏塔连接,精馏塔顶部通过气体管道与吸收塔中部连接,吸收塔上部侧边通过循环管道与成品连接,循环管道中部设有冷却管道,并与成品罐底部连接,冷却管道上设有冷却塔,冷却塔正下方设有隔膜泵,所述吸收塔下部侧边通过氨水排放管道与成品罐连接;通过过滤器对氨气进行杂质过滤,再通过精馏塔对氨气进一步的进行过滤,去除其内部杂质提高了其纯度达到了保证产品质量,提高生产效率,降低安全隐患的有益效果。

该氨水纯化生产设备中的吸收装置部分采用先将氨气与超纯水结合后产生的超纯氨水初级品通入至成品罐内,而后再次用隔膜泵将成品罐内的超纯氨初级品通入至吸收塔内并与氨气结合,以此循环直至氨水浓度达到所需值。但是该循环中没有设置过滤装置,超纯氨水初级品在循环的过程中还可能会掺入部分杂质,导致得到的超纯氨水的纯度降低;并且将成品罐作为超纯氨初级品的中间储存容器,并且每次都只有部分成品罐内的超纯氨初级品参与循环,可能会使得成品罐内依旧残留有部分超纯氨水初级品未参与循环或是循环不充分,从而增加了为得到所需浓度超纯氨水所需的循环次数与时间,降低了生产效率,提高了生产成本。

实用新型内容

本实用新型是为了克服现有电子级超纯氨水的吸收装置循环效率低导致生产成本高、在循环过程中可能会掺入杂质导致得到的成品纯度低的问题,提供一种电子级超纯氨水的吸收装置,拥有较好地循环吸收效率,且能够在循环过程中除去杂质,从而提高生产效率,降低成本,并提高产品的质量。

为了实现上述目的,本实用新型采用以下技术方案:

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