[实用新型]一种晶圆吸取装置有效
申请号: | 202020523357.9 | 申请日: | 2020-04-11 |
公开(公告)号: | CN211605122U | 公开(公告)日: | 2020-09-29 |
发明(设计)人: | 李云华;尹伟 | 申请(专利权)人: | 昆山成功环保科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H01L21/677;H01L21/67 |
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地址: | 215334 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 吸取 装置 | ||
本实用新型公开了一种晶圆吸取装置,包括封装机的传送台,传送台的顶端放置有工件,工件的下方设置有顶升板,顶升板的左侧设置有接触式传感器,顶升板的底端中心位置设置有气缸一,传送台的顶端一侧设置有机架,机架的顶部对称设置有滑轨,两滑轨之间设置有丝杆,丝杆的一端连接有伺服电机,滑轨上滑动连接有拖板,且拖板与丝杆螺纹连接;拖板的顶部设置有行程气缸,拖板上开设有燕尾滑槽,燕尾滑槽内滑动连接有滑块,滑块的顶端与行程气缸的活塞固定连接。有益效果:结构紧凑,采用双保险的设计,可以有效防止晶圆吸取过程中发生掉落的情况出现,同时减少了夹具在吸取晶圆时对晶圆的冲击,以保证晶圆完好无损。
技术领域
本实用新型涉及半导体封装技术领域,具体来说,涉及一种晶圆吸取装置。
背景技术
晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片,由于其形状为圆形,故称为晶圆;在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构,而成为有特定电性功能之IC产品。晶圆的原始材料是硅,而地壳表面有用之不竭的二氧化硅。二氧化硅矿石经由电弧炉提炼,盐酸氯化,并经蒸馏后,制成了高纯度的多晶硅,其纯度高达99.9%。
在晶圆的生产制造以及封装过程中,需要多次拾取晶圆变换位置以进行不同工序的加工,现有的晶圆拾取装置在实际的使用过程中,与晶圆接触时,由于一般没有安装缓冲组装置,会对晶圆产生一定的冲击,此外,传统的晶圆拾取装置没有自保持的自锁机构,一旦发生断电或者断气,位于拾取装置上的晶圆可能发生掉落,造成晶圆的损坏。
针对相关技术中的问题,目前尚未提出有效的解决方案。
实用新型内容
针对相关技术中的问题,本实用新型提出一种晶圆吸取装置,以克服现有相关技术所存在的上述技术问题。
为此,本实用新型采用的具体技术方案如下:
一种晶圆吸取装置,包括封装机的传送台,传送台的顶端放置有工件,工件的下方设置有顶升板,顶升板的左侧设置有接触式传感器,顶升板的底端中心位置设置有气缸一,传送台的顶端一侧设置有机架,机架的顶部对称设置有滑轨,两滑轨之间设置有丝杆,丝杆的一端连接有伺服电机,滑轨上滑动连接有拖板,且拖板与丝杆螺纹连接;拖板的顶部设置有行程气缸,拖板上开设有燕尾滑槽,燕尾滑槽内滑动连接有滑块,滑块的顶端与行程气缸的活塞固定连接,滑块的底部开设有阶梯孔,阶梯孔内设置有缓冲机构,缓冲机构底端设置有真空吸盘,滑块远离拖板的一侧设置有自锁机构,滑块的底部两侧对称设置有限位块,滑块的底端一侧设置有光电开关,拖板的一侧设置有位移传感器;自锁机构包括设置在滑块上的气缸二,气缸二的活塞杆连接有导杆,导杆的中间位置设置有滑套,且滑套固定在滑块的侧壁上,导杆的圆周外侧且位于滑套的顶端设置有弹簧二,导杆的底端设置有夹紧组件。
进一步的,为了使弹簧一与阶梯柱相配合,当真空吸盘与工件接触时,在弹簧一的作用下减弱真空吸盘在吸取晶圆时对晶圆的冲击,保证晶圆完好无损,缓冲机构包括设置在阶梯孔内的弹簧一,弹簧一的底端设置有阶梯柱,且阶梯柱的底端连接有真空吸盘。
进一步的,为了使气缸二推动导杆,导杆带动曲臂绕固定轴转动,进而实现两曲臂的夹紧与打开,夹紧组件包括对称设置在滑块两侧且位于限位块上方的固定块,固定块上均设置有固定轴,固定轴的圆周外侧均活动连接有曲臂,且导杆的底端与曲臂的顶部活动连接。
进一步的,为了使安装槽可以安装弹簧二并与滑套相配合,使导杆始终处于上死点,以保持两曲臂始终处于夹紧状态实现自保持,即使突然断电或者断气,导致真空吸盘不工作,可以保证工件被夹紧组件夹持,不会掉落,进而保证了晶圆的品质,导杆的一端设置有端面,端面上设置有固定销,导杆远离端面的一端圆周外侧设置有锥形限位套,锥形限位套朝向端面的一侧端面开设有安装槽。
进一步的,为了当曲臂绕固定轴旋转时,由于圆角的存在,可以保证曲臂旋转至夹紧状态的过程中不会刮擦工件,保证夹紧组件可以顺畅的运行,曲臂的顶部开设有U形通孔,U形通孔的一侧设置有轴孔,曲臂的底部设置有卡槽,卡槽的底部一侧设置圆角。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造