[实用新型]掩膜版存放装置有效
| 申请号： | 202020532605.6 | 申请日： | 2020-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN212181244U | 公开（公告）日： | 2020-12-18 |
| 发明（设计）人： | 熊启龙 | 申请（专利权）人： | 合肥清溢光电有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/66 | 分类号： | G03F1/66 |
| 代理公司： | 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) 11427 | 代理人： | 宫建华 |
| 地址： | 230012 安徽省合*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 掩膜版 存放 装置 | ||
1.一种掩膜版存放装置，用于存放掩膜版，其特征在于：包括：
安装台；
旋转组件，数量为两个，且设于所述安装台上；
弹性件，两个所述弹性件与两个所述旋转组件位于同一直线上，两个所述弹性件设于两个所述旋转组件之间；以及
夹持组件，数量为两个，各所述夹持组件均包括呈夹角设置的第一夹持件和第二夹持件，所述第一夹持件与所述第二夹持件的连接处与所述旋转组件转动连接，各所述第二夹持件下方均连接有一个所述弹性件，所述第一夹持件和所述第二夹持件上均设有用于支撑所述掩膜版的卡轮。
2.根据权利要求1所述的掩膜版存放装置，其特征在于：所述第一夹持件与所述第二夹持件之间的夹角为90°。
3.根据权利要求1所述的掩膜版存放装置，其特征在于：各所述第一夹持件均设有多个等间距间隔设置的所述卡轮。
4.根据权利要求3所述的掩膜版存放装置，其特征在于：所述第一夹持件和所述第二夹持件上均穿设有多个第一连接件，各所述第一连接件上均转动设有一个所述卡轮。
5.根据权利要求4所述的掩膜版存放装置，其特征在于：各所述旋转组件均包括固定支架和设于所述固定支架上的第二连接件，所述第一夹持件和所述第二夹持件的连接处与所述第二连接件转动连接，两个所述弹性件设于两个所述固定支架之间。
6.根据权利要求5所述的掩膜版存放装置，其特征在于：所述安装台上开设有两个第一滑槽，两个所述第一滑槽位于同一直线上，各所述固定支架滑动设于一个所述第一滑槽内。
7.根据权利要求4所述的掩膜版存放装置，其特征在于：各所述第一夹持件开设有沿所述第一夹持件的长度方向设置的第二滑槽，多个所述第一连接件滑动设于所述第二滑槽内。
8.根据权利要求5所述的掩膜版存放装置，其特征在于：各所述第二夹持件开设有沿所述第二夹持件的长度方向设置的第三滑槽，多个所述第一连接件滑动设于所述第三滑槽内。
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G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
